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1. (WO2015129521) 感放射線性組成物およびその製造方法、硬化膜、カラーフィルタおよびその製造方法、パターン形成方法、固体撮像素子ならびに画像表示装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2015/129521 国際出願番号: PCT/JP2015/054421
国際公開日: 03.09.2015 国際出願日: 18.02.2015
IPC:
G02B 5/20 (2006.01) ,C09B 67/22 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,C09B 45/14 (2006.01) ,C09B 45/22 (2006.01) ,C09B 47/10 (2006.01) ,H01L 27/14 (2006.01)
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
5
レンズ以外の光学要素
20
フィルター
C 化学;冶金
09
染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
B
有機染料または染料製造に密接な関連を有する化合物;媒染剤;レーキ
67
化学反応によらない,たとえば溶剤処理による染料の物性,たとえば染色性または捺染性の影響;染料製造における工程的特徴;特定の物性を有する染料,例.フイルムの製造
22
異なる顔料または染料の混合物または顔料または染料の固溶体
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
C 化学;冶金
09
染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
B
有機染料または染料製造に密接な関連を有する化合物;媒染剤;レーキ
45
アゾ染料の金属錯塩化合物
02
o―位にヒドロキシ基とo↑1―位にヒドロキシ,アルコキシ,カルボキシ,アミノまたはケト基を含む染料からの製造
14
モノアゾ化合物
C 化学;冶金
09
染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
B
有機染料または染料製造に密接な関連を有する化合物;媒染剤;レーキ
45
アゾ染料の金属錯塩化合物
02
o―位にヒドロキシ基とo↑1―位にヒドロキシ,アルコキシ,カルボキシ,アミノまたはケト基を含む染料からの製造
14
モノアゾ化合物
22
その他の金属を含むもの
C 化学;冶金
09
染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
B
有機染料または染料製造に密接な関連を有する化合物;媒染剤;レーキ
47
ポルフィン;アザポルフィン
04
フタロシアニン
08
その他のフタロシアニン化合物からの製造
10
フタロシアニン核に直接結合したハロゲン原子を有する化合物の製造
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
27
1つの共通基板内または上に形成された複数の半導体構成部品または他の固体構成部品からなる装置
14
赤外線,可視光,短波長の電磁波または粒子線輻射に感応する半導体構成部品で,これらの輻射線エネルギーを電気的エネルギーに変換するかこれらの輻射線によって電気的エネルギーを制御するかのどちらかに特に適用されるもの
出願人:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
発明者:
高橋 和敬 TAKAHASHI Kazutaka; JP
代理人:
特許業務法人特許事務所サイクス SIKS & CO.; 東京都中央区京橋一丁目8番7号 京橋日殖ビル8階 8th Floor, Kyobashi-Nisshoku Bldg., 8-7, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040031, JP
優先権情報:
2014-03890028.02.2014JP
発明の名称: (EN) RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, CURED FILM, COLOR FILTER, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, PATTERNING METHOD, SOLID-STATE IMAGING ELEMENT, AND IMAGE DISPLAY DEVICE
(FR) COMPOSITION SENSIBLE AUX RAYONNEMENTS, PROCÉDÉ POUR SA FABRICATION, FILM DURCI, FILTRE DE COULEUR, PROCÉDÉ POUR SA FABRICATION, PROCÉDÉ DE CRÉATION DE MOTIFS, ÉLÉMENT D'IMAGERIE À SEMICONDUCTEURS ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE D'IMAGES
(JA) 感放射線性組成物およびその製造方法、硬化膜、カラーフィルタおよびその製造方法、パターン形成方法、固体撮像素子ならびに画像表示装置
要約:
(EN) This invention provides a radiation-sensitive composition that minimizes residue and exogenous substances while exhibiting good long-duration post-exposure delay characteristics. This invention also provides a method for manufacturing said radiation-sensitive composition, a cured film, a color filter, a manufacturing method therefor, a patterning method, a solid-state imaging element, and an image display device. This radiation-sensitive composition contains a resin and pigments including C.I. Pigment Green 36, C.I. Pigment Yellow 150, and C.I. Pigment Yellow 185. C.I. Pigment Green 36 constitutes 80-86% of the total mass of the pigments in this radiation-sensitive composition, and the mass ratio of C.I. Pigment Yellow 150 to C.I. Pigment Yellow 185 is between 65.4:35.6 and 79.0:21.0, inclusive. The acid value of the resin is between 20 and 50 mg KOH/g, inclusive, and the ratio between the amine value of the resin and the acid value of the resin is between 0.85 and 1.45, inclusive.
(FR) La présente invention concerne une composition sensible aux rayonnements, qui minimise les résidus et les substances exogènes tout en présentant de bonnes caractéristiques de retard de longue durée post-exposition. La présente invention concerne également un procédé de fabrication de ladite composition sensible aux rayonnements, un film durci, un filtre de couleur, un procédé pour sa fabrication, un procédé de création de motifs, un élément d'imagerie à semiconducteurs et un dispositif d'affichage d'images. Cette composition sensible aux rayonnements contient une résine et des pigments parmi lesquels figurent le pigment vert C.I. 36, le pigment jaune C.I. 150 et le pigment jaune C.I. 185. Le pigment vert C.I. 36 constitue 80 à 86% de la masse totale des pigments dans cette composition sensible aux rayonnements, et le rapport de masse du pigment jaune C.I. 150 au pigment jaune C.I. 185 se situe entre 65,4:35,6 et 79,0:21,0 inclus. L'indice d'acide de la résine se situe entre 20 et 50 mg KOH/g inclus, et le rapport entre l'indice d'amine de la résine et l'indice d'acide de la résine se situe entre 0,85 et 1,45 inclus.
(JA)  長時間の引き置き性を良好にしつつ、異物の発生および残渣の発生を抑制することができる感放射線性組成物、ならびに、感放射線性組成物の製造方法、硬化膜、カラーフィルタおよびその製造方法、パターン形成方法、固体撮像素子、画像表示装置の提供。C.I.ピグメントグリーン36、C.I.ピグメントイエロー150、C.I.ピグメントイエロー185を含む顔料ならびに樹脂を含有し、顔料100質量部に対するC.I.ピグメントグリーン36の含有量が80~86質量部であり、C.I.ピグメントイエロー150とC.I.ピグメントイエロー185の質量比が65.4:35.6~79.0:21.0の範囲であり、上記樹脂は、酸価が20~50mgKOH/gであり、かつ、酸価に対するアミン価の比が0.85~1.45である、感放射線性組成物。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
KR1020160105860