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1. (WO2015129405) レジストパターンに塗布されるポリマー含有塗布液
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2015/129405 国際出願番号: PCT/JP2015/052970
国際公開日: 03.09.2015 国際出願日: 03.02.2015
IPC:
G03F 7/40 (2006.01) ,G03F 7/32 (2006.01) ,H01L 21/027 (2006.01) ,C08G 77/14 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
26
感光材料の処理;そのための装置
40
画像様除去後の処理,例.加熱
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
26
感光材料の処理;そのための装置
30
液体手段を用いる画像様除去
32
そのための液体組成物,例.現像剤
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
027
その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループ21/18または21/34に分類されないもの
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
G
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物
77
高分子の主鎖にいおう,窒素,酸素または炭素を有しまたは有せずにけい素を含む連結基を形成する反応により得られる高分子化合物
04
ポリシロキサン
14
酸素含有基に結合したけい素を含むもの
出願人:
日産化学工業株式会社 NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 東京都千代田区神田錦町三丁目7番地1 7-1, Kanda-Nishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010054, JP
発明者:
志垣 修平 SHIGAKI, Shuhei; JP
境田 康志 SAKAIDA, Yasushi; JP
坂本 力丸 SAKAMOTO, Rikimaru; JP
代理人:
特許業務法人はなぶさ特許商標事務所 HANABUSA PATENT & TRADEMARK OFFICE; 東京都千代田区神田駿河台3丁目2番地 新御茶ノ水アーバントリニティ Shin-Ochanomizu Urban Trinity, 2, Kandasurugadai 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010062, JP
優先権情報:
2014-03585526.02.2014JP
発明の名称: (EN) POLYMER-CONTAINING COATING LIQUID APPLIED TO RESIST PATTERN
(FR) REVÊTEMENT CONTENANT UN POLYMÈRE LIQUIDE APPLIQUÉ À UN MOTIF DE RÉSERVE
(JA) レジストパターンに塗布されるポリマー含有塗布液
要約:
(EN) [Problem] To provide a coating liquid that is applied to a resist pattern and that is used in place of a conventional rinsing liquid. [Solution] A coating liquid applied to a resist pattern, the coating liquid comprising a polymer having a structural unit represented by formula (1), and a solvent including water and/or an alcohol. (In the formula, R1 represents a C1-12 organic group, and X represents an organic group represented by formula (2) (wherein R2 and R3 each independently represent a linear or branched C1-3 alkylene group; said R2 bonds with an oxygen atom in formula (1); R4 represents a C1-4 alkoxy group, an allyloxy group, or a hydroxy group; and p represents 0, 1, or 2).)
(FR) [Problème] L’objectif de l'invention est de fournir un liquide de revêtement qui est appliqué sur un motif de réserve et remplace un liquide de rinçage classique. [Solution] Un liquide de revêtement est appliqué à un motif de réserve, le liquide de revêtement comprenant un polymère ayant un motif structurel représenté par la formule (1), et un solvant comprenant de l'eau et/ou un alcool. (Dans la formule, R1 représente un groupe organique en C1-12, et X représente un groupe organique représenté par la formule (2) (dans laquelle R2 et R3 représentent chacun indépendamment un groupe alkylène en C1-3 linéaire ou ramifié ; ledit R2 se lie à un atome d'oxygène dans la formule (1) ; R4 représente un groupe alcoxy en C1-4, un groupe allyloxy, ou un groupe hydroxy ; et p représente 0, 1, ou 2).)
(JA) 【課題】 従来のリンス液の代わりに用いられる、レジストパターンに塗布される塗布液を提供する。 【解決手段】 下記式(1)で表される構造単位を有するポリマーと、水及び/又はアルコール類を含有する溶剤とを含む、レジストパターンに塗布される塗布液。(式中、Rは炭素原子数1乃至12の有機基を表し、Xは下記式(2)で表される有機基を表す。 (式中、R及びRはそれぞれ独立に直鎖状又は分岐鎖状の炭素原子数1乃至3のアルキレン基を表し、当該Rは前記式(1)中の酸素原子と結合し、Rは炭素原子数1乃至4のアルコキシ基、アリルオキシ基又はヒドロキシ基を表し、pは0、1又は2を表す。))
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
CN106030418US20160363867JPWO2015129405KR1020160125966