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1. (WO2015129355) パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス、並びに、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び、レジスト膜
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2015/129355 国際出願番号: PCT/JP2015/051794
国際公開日: 03.09.2015 国際出願日: 23.01.2015
IPC:
G03F 7/039 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/038 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
039
光分解可能な高分子化合物,例.ポジ型電子レジスト
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
038
不溶性又は特異的に親水性になる高分子化合物
出願人:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
発明者:
川端 健志 KAWABATA Takeshi; JP
土村 智孝 TSUCHIMURA Tomotaka; JP
椿 英明 TSUBAKI Hideaki; JP
代理人:
小田原 修一 ODAHARA Shuichi; JP
優先権情報:
2014-03730027.02.2014JP
発明の名称: (EN) PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, ELECTRONIC DEVICE, ACTIVE-LIGHT-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE, DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE, COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE À LA LUMIÈRE ACTIVE OU SENSIBLE AU RAYONNEMENT ET FILM DE RÉSERVE
(JA) パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス、並びに、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び、レジスト膜
要約:
(EN)  A pattern forming method having: a step for forming a film using an active-light-sensitive or radiation-sensitive resin composition as indicated by (i) or (ii); a step for exposing the film; and a step for removing the exposed portion of the film that was exposed, and forming a pattern, using an alkali developing fluid or a developing fluid containing an organic solvent. (i) An active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition containing a resin (A1) that has: a repeating unit having a group that decomposes to form a polar group due to the action of an acid; and a repeating unit that does not dissociate when irradiated with active light or radiation, said repeating unit having a partial structure that has a monovalent iodine atom (ii) An active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition containing: a resin (A2) having a repeating unit that has a group that decomposes to form a polar group due to the action of an acid; and a compound (AD) having a monovalent iodine atom.
(FR)  L'invention porte sur un procédé de formation de motif ayant : une étape de formation d'un film à l'aide d'une composition de résine sensible à la lumière active ou sensible au rayonnement telle qu'indiquée par (i) ou (ii) ; une étape pour exposer le film ; et une étape pour éliminer la partie exposée du film qui a été exposée, et former un motif, à l'aide d'un fluide de développement alcalin ou d'un fluide de développement contenant un solvant organique. (i) Une composition de résine sensible à la lumière active ou sensible au rayonnement contenant une résine (A1) qui a : une unité de répétition ayant un groupe qui se décompose pour former un groupe polaire en raison de l'action d'un acide; et une unité de répétition qui ne se dissocie pas lorsqu'elle est irradiée avec une lumière active ou un rayonnement, ladite unité de répétition ayant une structure partielle qui possède un atome d'iode monovalent. (ii) Une composition de résine sensible à la lumière active ou sensible au rayonnement contenant : une résine (A2) ayant une unité de répétition qui a un groupe qui se décompose pour former un groupe polaire en raison de l'action d'un acide; et un composé (AD) ayant un atome d'iode monovalent.
(JA)  パターン形成方法は、下記(i)又は(ii)である感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程、この膜を露光する工程、及び、アルカリ現像液又は有機溶剤を含む現像液を用いて、この露光された膜の露光部を除去してパターンを形成する工程を有する。 (i)(A1)酸の作用により分解して極性基を生じる基を有する繰り返し単位、及び、活性光線又は放射線の照射によって脱離しない、一価のヨウ素原子を有する部分構造を有する繰り返し単位を有する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物 (ii)(A2)酸の作用により分解して極性基を生じる基を有する繰り返し単位を有する樹脂、及び、(AD)一価のヨウ素原子を有する化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)