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1. (WO2015129323) 赤外線反射パターン形成体
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2015/129323 国際出願番号: PCT/JP2015/051101
国際公開日: 03.09.2015 国際出願日: 16.01.2015
IPC:
G02B 5/26 (2006.01)
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
5
レンズ以外の光学要素
20
フィルター
26
反射フィルター
出願人:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
発明者:
松野 亮 MATSUNO Ryou; JP
温井 克行 NUKUI Katsuyuki; JP
安田 英紀 YASUDA Hideki; JP
代理人:
特許業務法人特許事務所サイクス SIKS & CO.; 東京都中央区京橋一丁目8番7号 京橋日殖ビル8階 8th Floor, Kyobashi-Nisshoku Bldg., 8-7, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040031, JP
優先権情報:
2014-03458525.02.2014JP
発明の名称: (EN) INFRARED-REFLECTING PATTERNED BODY
(FR) CORPS PORTANT UN MOTIF ET RÉFLÉCHISSANT LES INFRAROUGES
(JA) 赤外線反射パターン形成体
要約:
(EN) This infrared-reflecting patterned body, in an area constituting a least a portion of a support, has a patterned portion of a metal particle-containing pattern layer containing flat metal particles of hexagonal to circular shape, and a unpatterned portion in which the metal particle-containing pattern layer is not formed on the support. In the infrared-reflecting patterned body, flat metal particles for which the principal plane of the flat metal particle is planar-oriented within a range of an average of 0 to ±30° with respect to one surface of the metal particle-containing layer constitute 50% or more of the total number of flat metal particles, and at the peak wavelength at which the reflectance differential between the patterned portion and the unpatterned portion reaches maximum, the reflectance of the patterned portion is high, and the reflectance of the unpatterned portion is low.
(FR) La présente invention concerne un corps portant un motif et réfléchissant les infrarouges, caractérisé en ce qu'il comprend, dans une zone constituant au moins une partie d'un support, une partie portant un motif d'une couche de motif contenant des particules métalliques, qui contient des particules métalliques plates de forme hexagonale à circulaire, et une partie dépourvue de motif dans laquelle la couche de motif contenant des particules métalliques n'est pas formée sur le support. Dans le corps portant un motif et réfléchissant les infrarouges, des particules métalliques plates pour lesquelles le plan principal de la particule métallique plate est orienté de façon planaire dans une plage de 0 à ±30° en moyenne par rapport à une surface de la couche contenant des particules métalliques constituent au moins 50% du nombre total de particules métalliques plates et, à la longueur d'onde de pic à laquelle le différentiel de réflectance entre la partie portant un motif et la partie dépourvue de motif atteint un maximum, la réflectance de la partie portant un motif est élevée, et la réflectance de la partie dépourvue de motif est faible.
(JA) 支持体上の少なくとも一部の領域に、六角形状乃至円形状の平板状金属粒子を含有する金属粒子含有パターン層をパターン部として有し、支持体上に、金属粒子含有パターン層が形成されていない非パターン部を有する赤外線反射パターン形成体であり、平板状金属粒子の主平面が金属粒子含有パターン層の一方の表面に対して平均0°~±30°の範囲で面配向している平板状金属粒子が、全平板状金属粒子の50個数%以上である赤外線反射パターン形成体は、パターン部と非パターン部の反射率差が最大となるピーク波長において、パターン部の反射率が高く、かつ、非パターン部の反射率が低い。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)