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1. (WO2015129292) ステージ装置およびそれを用いた荷電粒子線装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2015/129292 国際出願番号: PCT/JP2015/050200
国際公開日: 03.09.2015 国際出願日: 07.01.2015
IPC:
H01L 21/68 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,H01J 37/20 (2006.01) ,H01L 21/027 (2006.01) ,H02K 41/03 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
67
製造または処理中の半導体または電気的固体装置の取扱いに特に適用される装置;半導体または電気的固体装置もしくは構成部品の製造または処理中のウエハの取扱いに特に適用される装置
68
位置決め,方向決め,または整列のためのもの
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
H 電気
01
基本的電気素子
J
電子管または放電ランプ
37
放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
02
細部
20
物体または材料を支持しまたは位置づける手段;支持体に関連した隔膜壁またはレンズを調節する手段
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
027
その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループ21/18または21/34に分類されないもの
H 電気
02
電力の発電,変換,配電
K
発電機,電動機
41
固体とその移動通路に沿って移動する磁界との間の電磁力で固体を動かす推進装置
02
直線運動電動機;部分電機子型電動機
03
同期電動機;階動移動電動機;磁気抵抗の変化を利用した電動機
出願人:
株式会社 日立ハイテクノロジーズ HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西新橋一丁目24番14号 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717, JP
発明者:
西岡 明 NISHIOKA Akira; JP
水落 真樹 MIZUOCHI Masaki; JP
中川 周一 NAKAGAWA Shuichi; JP
牧 信行 MAKI Nobuyuki; JP
代理人:
井上 学 INOUE Manabu; JP
優先権情報:
2014-03353625.02.2014JP
発明の名称: (EN) STAGE DEVICE AND CHARGED PARTICLE RAY DEVICE USING THE SAME
(FR) DISPOSITIF À ÉTAGES ET DISPOSITIF À RAYONS DE PARTICULES CHARGÉES UTILISANT LE DISPOSITIF À ÉTAGES
(JA) ステージ装置およびそれを用いた荷電粒子線装置
要約:
(EN) In order to provide a stage device that effectively suppresses thermal deformation of a stage, said deformation being generated by a temperature increase caused by heat generated by a linear motor, and also provide a charged particle ray device using the same, the present invention provides a stage device which is equipped with a table (2) and a linear motor (5, 6) that drives the table in a prescribed direction, and in which the table and a moving part of the linear motor are connected by components (8, 10), and thermal deformation of the table is suppressed by a slide unit (16) being attached to a component (10) and movement being constrained to a rail fixed to a base, at the same time as the slide unit is positioned vertically below a location where a component (8) is joined to the table.
(FR) L'invention concerne un dispositif à étages supprimant efficacement la déformation thermique d'un étage, cette déformation étant générée par une augmentation de température provoquée par la chaleur produite par un moteur linéaire ; et un dispositif à rayons de particules chargées utilisant le dispositif à étages. Ledit dispositif à étages est équipé d'une table (2) et d'un moteur linéaire (5, 6) entraînant la table dans une direction prédéfinie dans laquelle la table et une partie mobile du moteur linéaire sont reliés par des composants (8, 10). La déformation thermique de la table est supprimée par une unité de coulissement (16) fixée à un composant (10), le déplacement étant limité à un rail fixé à une base simultanément au positionnement vertical de l'unité coulissante en-dessous d'un emplacement où un composant (8) est relié à la table.
(JA)  本発明は、リニアモータの発熱による温度上昇で生じるステージの熱変形を効果的に抑制するステージ装置およびそれを用いた荷電粒子線装置の提供を目的とする。上記目的を達成するために、テーブル(2)とテーブルを所定の方向に駆動するリニアモータ(5、6)を備えたステージ装置であって、テーブルと前記リニアモータの可動子を部品(8、10)によって接続し、部品10にはスライドユニット(16)を取り付けてベースに固定されたレールで移動を拘束し、同時に、そのスライドユニットは部品(8)がテーブルと接合している箇所の垂直下部に配置することで、テーブルの熱変形を抑制する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
US20160365219