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1. (WO2015129129) 広帯域反射防止膜を有する光学部材
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2015/129129 国際出願番号: PCT/JP2014/083093
国際公開日: 03.09.2015 国際出願日: 15.12.2014
IPC:
G02B 1/11 (2015.01) ,B32B 9/00 (2006.01) ,C23C 14/08 (2006.01)
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
1
使用物質によって特徴づけられた光学要素;光学要素のための光学的コーティング
10
光学要素への塗布または表面処理によって作られた光学的コーティング
11
反射防止膜
B 処理操作;運輸
32
積層体
B
積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
9
本質的にグループ11/00~29/00に包含されない特殊な物質からなる積層体
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
06
被覆材料に特徴のあるもの
08
酸化物
出願人:
コニカミノルタ株式会社 KONICA MINOLTA , INC. [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内2丁目7番2号 2-7-2, Marunouchi, Chiyoda-Ku, Tokyo 1007015, JP
発明者:
能勢 正章 NOSE Masaaki; JP
川路 宗矩 KAWAJI Munenori; JP
中村 孔二 NAKAMURA Koji; JP
代理人:
特許業務法人 佐野特許事務所 SANO PATENT OFFICE; 大阪府大阪市中央区天満橋京町2-6天満橋八千代ビル別館5F 5F, Tenmabashi-Yachiyo Bldg. Bekkan, 2-6, Tenmabashi-Kyomachi, Chuo-Ku, Osaka-Shi, Osaka 5400032, JP
優先権情報:
2014-03482726.02.2014JP
発明の名称: (EN) OPTICAL MEMBER PROVIDED WITH WIDE-BAND ANTI-REFLECTION FILM
(FR) ÉLÉMENT OPTIQUE AYANT UN FILM ANTI-REFLET À LARGE BANDE
(JA) 広帯域反射防止膜を有する光学部材
要約:
(EN) This optical member is provided with: a resin substrate; and an anti-reflection film which is formed upon the resin substrate, and which includes alternate layers of a high-refractive-index layer comprising TiO2, and a low-refractive-index layer comprising SiO2 and Al2O3. The film thickness of the low-refractive-index layers accounts for at least 60% but not more than 72.5% of the total film thickness of the anti-reflection film. The anti-reflection film has an average reflectance at an angle of incidence of 5˚ for wavelengths in the range of 420-900 nm of not more than 1.5%.
(FR) L'invention concerne un élément optique qui comprend : un substrat en résine ; et un film anti-reflet qui est formé sur le substrat en résine, et qui comprend des couches alternées d'une couche à indice de réfraction élevé comprenant TiO2, et d'une couche à indice de réfraction faible comprenant SiO2 et Al2O3. L'épaisseur de film des couches à indice de réfraction faible représente au moins 60 %, mais pas plus de 72,5 %, de l'épaisseur de film totale du film anti-reflet. Le film anti-reflet présente une réflectance moyenne, à un angle d'incidence de 5° pour des longueurs d'onde comprises dans la plage de 420-900 nm, de 1,5 % maximum.
(JA)  光学部材は、樹脂基板と、前記樹脂基板上に形成され、TiO2からなる高屈折率層と、SiO2及びAl2O3からなる低屈折率層と、の交互層を含む反射防止膜と、を有する。前記反射防止膜の総膜厚に占める前記低屈折率層の膜厚比率が60%以上72.5%以下であり、前記反射防止膜は、波長420nm~900nmで入射角5°における平均反射率が1.5%以下の特性を有する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
JPWO2015129129