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1. (WO2015129058) 感光性樹脂組成物
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2015/129058 国際出願番号: PCT/JP2014/065660
国際公開日: 03.09.2015 国際出願日: 06.06.2014
IPC:
G03F 7/033 (2006.01) ,G03F 7/031 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
027
炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
032
結合剤をもつもの
033
結合剤が炭素-炭素不飽和結合を含む反応のみによって得られた重合体であるもの,例.ビニル重合体
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
027
炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
028
増感物質をもつもの,例.光重合開始剤
031
グループ7/029に包含されない有機化合物
出願人:
住友化学株式会社 SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 東京都中央区新川二丁目27番1号 27-1, Shinkawa 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1048260, JP
発明者:
河西 裕 KAWANISHI, Yutaka; JP
井上 裕康 INOUE, Hiroyasu; JP
山下 和貴 YAMASHITA, Kazuki; JP
代理人:
中山 亨 NAKAYAMA, Tohru; JP
優先権情報:
2014-03851628.02.2014JP
発明の名称: (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE
(JA) 感光性樹脂組成物
要約:
(EN) A photosensitive resin composition containing (A), (B), (C), and (D). (A) A polymer that has a structural unit having a phenolic hydroxy group but no structural units having a C4-6 perfluoroalkyl group, (B) a polymer containing a structural unit having a C4-6 perfluoroalkyl group, (C) a polymerizable compound, and (D) a polymerization initiator.
(FR) L'invention concerne une composition de résine photosensible contenant (A), (B), (C), et (D). (A) représente un polymère qui a une unité structurale ayant un groupe hydroxy phénolique, mais pas d'unités structurales ayant un groupe perfluoroalkyle en C4-6, (B) représente un polymère contenant une unité structurale ayant un groupe perfluoroalkyle en C4-6, (C) représente un composé polymérisable, et (D) représente un initiateur de polymérisation.
(JA) (A)、(B)、(C)及び(D)を含む感光性樹脂組成物。 (A)フェノール性ヒドロキシ基を有する構造単位を有し、炭素数4~6のペルフルオロアルキル基を 有する構造単位を有しない重合体 (B)炭素数4~6のペルフルオロアルキル基を有する構造単位を含む重合体 (C)重合性化合物 (D)重合開始剤
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
KR1015596920000*CN105992974