処理中

しばらくお待ちください...

設定

設定

出願の表示

1. WO2015087979 - ターゲット供給装置

公開番号 WO/2015/087979
公開日 18.06.2015
国際出願番号 PCT/JP2014/082879
国際出願日 11.12.2014
IPC
H05G 2/00 2006.01
H電気
05他に分類されない電気技術
GX線技術
2X線の発生に特に適合した装置または処理で,X線管を含まないもの,例.プラズマの発生を含むもの
CPC
G03F 7/70033
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70008Production of exposure light, i.e. light sources
70033by plasma EUV sources
H05G 2/005
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
GX-RAY TECHNIQUE
2Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
001X-ray radiation generated from plasma
003being produced from a liquid or gas
005containing a metal as principal radiation generating component
H05G 2/006
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
GX-RAY TECHNIQUE
2Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
001X-ray radiation generated from plasma
003being produced from a liquid or gas
006details of the ejection system, e.g. constructional details of the nozzle
H05G 2/008
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
GX-RAY TECHNIQUE
2Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
001X-ray radiation generated from plasma
008involving a beam of energy, e.g. laser or electron beam in the process of exciting the plasma
出願人
  • ギガフォトン株式会社 GIGAPHOTON INC. [JP]/[JP]
発明者
  • 白石 裕 SHIRAISHI Yutaka
  • 平下 俊行 HIRASHITA Toshiyuki
  • 池坂 慎哉 IKESAKA Shinya
代理人
  • 特許業務法人 エビス国際特許事務所 EBISU INTERNATIONAL PATENT OFFICE
優先権情報
PCT/JP2013/08351413.12.2013JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) TARGET FEED APPARATUS
(FR) APPAREIL D'ALIMENTATION CIBLE
(JA) ターゲット供給装置
要約
(EN)
 This target feed apparatus is provided with: a target generator having a nozzle in which are formed nozzle holes for outputting a liquid target substance, and containing a liquid target substance inside; and a filter arranged within the target generator and formed of glass that reacts with the liquid target substance and produces a solid reaction product. The filter has first through-holes for circulating the liquid target substance, the inside surfaces of the first through-holes being coated by a material that is nonreactive with the liquid target substance.
(FR)
 L'invention concerne un appareil d'alimentation cible qui comprend : un générateur cible comportant une buse dans laquelle sont formés des trous de buse pour faire sortir une substance cible liquide, et contenant une substance cible liquide ; et un filtre agencé dans le générateur cible et formé de verre qui réagit avec la substance cible liquide et produit un produit de réaction solide. Le filtre comporte des premiers trous traversants destinés à faire circuler la substance cible liquide, les surfaces intérieures des premiers trous traversants étant recouvertes par un matériau qui ne réagit pas avec la substance cible liquide.
(JA)
 ターゲット供給装置は、液体ターゲット物質が出力されるノズル孔が形成されたノズルを有し、内部に液体ターゲット物質を収容するターゲット生成器と、ターゲット生成器内に配置され、液体ターゲット物質と反応して固体の反応生成物を生成するガラスで形成されたフィルタとを備え、フィルタは、液体ターゲット物質を流通させるための第1貫通孔を有し、第1貫通孔の内表面には、液体ターゲット物質と反応し難い材料がコーティングされている。
他の公開
関連公開情報:
国際事務局に記録されている最新の書誌情報