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1. WO2015079714 - X線回折装置およびX線回折測定方法

公開番号 WO/2015/079714
公開日 04.06.2015
国際出願番号 PCT/JP2014/051630
国際出願日 27.01.2014
IPC
G01N 23/207 2006.01
G物理学
01測定;試験
N材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
23グループG01N3/00~G01N17/00,G01N21/00またはG01N22/00に包含されない波動性または粒子性放射線,例.X線,中性子線,の使用による材料の調査または分析
20材料による放射線の回折の利用によるもの,例.結晶構造の調査のためのもの;材料による放射線の散乱の利用によるもの,例.非結晶構造の調査のためのもの;材料による放射線の反射の利用によるもの
207回折法,例.プローブを中心として1以上の移動可能な検出器を円周上に配置するもの
CPC
G01N 2223/3301
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
2223Investigating materials by wave or particle radiation
30Accessories, mechanical or electrical features
33scanning, i.e. relative motion for measurement of successive object-parts
3301beam is modified for scan, e.g. moving collimator
G01N 23/207
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
23Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
20by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
207Diffractometry using detectors, e.g. using a probe in a central position and one or more displaceable detectors in circumferential positions
出願人
  • 株式会社リガク RIGAKU CORPORATION. [JP]/[JP]
発明者
  • 小林 信太郎 KOBAYASHI Shintaro
  • 光永 徹 MITSUNAGA Toru
  • 梶芳 功系兆 KAJIYOSHI Koichi
  • 新井 和良 ARAI Kazuyoshi
代理人
  • 油井 透 YUI Tohru
優先権情報
2013-24350626.11.2013JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) X-RAY DIFFRACTOMETER AND X-RAY DIFFRACTOMETRY METHOD
(FR) DIFFRACTOMÈTRE À RAYONS X ET PROCÉDÉ DE DIFFRACTOMÉTRIE À RAYONS X
(JA) X線回折装置およびX線回折測定方法
要約
(EN)
 Through the present invention, measurement resolution can be changed without use of a downstream receiving slit, and it is possible to flexibly adapt even to a change in measurement resolution that cannot be realized when a downstream receiving slit is used. In this X-ray diffractometer, X-rays generated by an X-ray source are shined on a sample (S) on a sample stage (7), and X-rays diffracted thereon are detected by a detector (15), and the X-ray diffractometer is provided with a virtual mask setting unit (26) and a signal processing unit (21). The detector (15) outputs a detection signal for each of a plurality of detection elements (16) forming a detection surface (17), the detection signals corresponding to the intensity of X-rays received by the detection elements (16). The virtual mask setting unit (26) sets a virtual mask (31) on the detection surface (17) of the detector (15), and as an opening condition of the virtual mask (31), at least the opening dimensions of the virtual mask can be set independently in the X-direction and the Y-direction. The signal processing unit (21) processes the detection signals outputted from the detector (15) in accordance with the opening condition of the virtual mask set by the virtual mask setting unit (26).
(FR)
 Selon la présente invention, une résolution de mesure peut être changée sans une utilisation d'une fente de réception aval, et il est possible de s'adapter de façon flexible même à un changement de résolution de mesure qui ne peut pas être réalisé lorsqu'une fente de réception aval est utilisée. Dans le diffractomètre à rayons X de la présente invention, des rayons X générés par une source de rayons X sont rayonnés sur un échantillon (S) sur un étage (7) d'échantillon, et des rayons X diffractés sur ce dernier sont détectés par un détecteur (15), et le diffractomètre à rayons X comporte une unité (26) de réglage de masque virtuel et une unité (21) de traitement de signal. Le détecteur (15) émet un signal de détection pour chacun d'une pluralité d'éléments (16) de détection formant une surface (17) de détection, les signaux de détection correspondant à l'intensité de rayons X reçus par les éléments (16) de détection. L'unité (26) de réglage de masque virtuel règle un masque (31) virtuel sur la surface (17) de détection du détecteur (15), et en tant que condition d'ouverture du masque (31) virtuel, au moins les dimensions d'ouverture du masque virtuel peuvent être réglées indépendamment dans la direction X et la direction Y. L'unité (21) de traitement de signal traite les signaux de détection émis par le détecteur (15) selon la condition d'ouverture du masque virtuel réglé par l'unité (26) de réglage de masque virtuel.
(JA)
 後段受光スリットを使用することなく測定分解能を変更可能で、かつ、後段受光スリットを使用する場合には実現不可能な測定分解能の変更にも柔軟に対応可能とする。本発明のX線回折装置は、X線源で発生させたX線を試料台7上の試料Sに照射し、そこで回折したX線を検出器15で検出するもので、仮想マスク設定部26と信号処理部21を備える。検出器15は、検出面17を形成する複数の検出素子16ごとに、検出素子16で受光したX線の強度に応じた検出信号を出力する。仮想マスク設定部26は、検出器15の検出面17に仮想マスク31を設定するとともに、仮想マスク31の開口条件として、少なくとも仮想マスクの開口寸法をX方向とY方向で独立に設定可能である。信号処理部21は、検出器15から出力された検出信号を、仮想マスク設定部26で設定された仮想マスクの開口条件に応じて処理する。
他の公開
関連公開情報:
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