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1. (WO2015072083) センサ素子とその製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2015/072083    国際出願番号:    PCT/JP2014/005298
国際公開日: 21.05.2015 国際出願日: 20.10.2014
IPC:
G01C 19/5769 (2012.01), G01C 19/574 (2012.01), H01L 41/047 (2006.01), H01L 41/113 (2006.01)
出願人: PANASONIC INTELLECTUAL PROPERTY MANAGEMENT CO., LTD. [JP/JP]; 1-61, Shiromi 2-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5406207 (JP)
発明者: NISHIWAKI, Hideaki;
代理人: FUJII, Kentaro; (JP)
優先権情報:
2013-237624 18.11.2013 JP
発明の名称: (EN) SENSOR ELEMENT AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
(FR) ÉLÉMENT CAPTEUR ET MÉTHODE DE FABRICATION DE CELUI-CI
(JA) センサ素子とその製造方法
要約: front page image
(EN)In the present invention, a first wafer is prepared, said first wafer having a surface that is provided with a cavity. A second wafer having a surface is prepared. The surface of the first wafer and the surface of the second wafer are bonded to each other. Then, a vibrating section is formed on the second wafer. Then, the second wafer is processed. An insulating film is provided on the surface of the first wafer and/or the surface of the second wafer. In this method, a sensor element having improved detection accuracy is obtained at a high productivity.
(FR)Selon la présente invention, une première tranche est préparée, ladite première tranche ayant une surface qui est dotée d'une cavité. Une deuxième tranche ayant une surface est préparée. La surface de la première tranche et la surface de la deuxième tranche sont adhérées ensemble. Puis, une section vibrante est formée sur la deuxième tranche. Puis, la deuxième tranche est traitée. Un film isolant est placé sur la surface de la première tranche et/ou la surface de la deuxième tranche. Selon cette méthode, un élément capteur ayant une précision de détection améliorée est obtenu avec une productivité élevée.
(JA) キャビティが設けられた面を有する第1のウェハを準備する。面を有する第2のウェハを準備する。第1のウェハの上記面と第2のウェハの上記面を接合する。その後、第2のウェハに振動部を形成する。その後、第2のウェハを加工する。第1と第2のウェハの上記面のうちの少なくとも1つには絶縁膜が設けられている。この方法により、高い生産性で検出精度を向上させたセンサ素子が得られる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)