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1. (WO2015064718) 光架橋形成抑制方法、及び自己架橋体形成抑制型光応答性核酸
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2015/064718    国際出願番号:    PCT/JP2014/078980
国際公開日: 07.05.2015 国際出願日: 30.10.2014
IPC:
C07H 19/073 (2006.01), C07H 21/04 (2006.01), C12N 15/09 (2006.01)
出願人: JAPAN SCIENCE AND TECHNOLOGY AGENCY [JP/JP]; 1-8, Honcho 4-chome, Kawaguchi-shi, Saitama 3320012 (JP)
発明者: FUJIMOTO,Kenzo; (JP).
NAKAMURA,Shigetaka; (JP)
代理人: AXIS PATENT INTERNATIONAL; Shimbashi i-mark Bldg., 6-2 Shimbashi 2-Chome, Minato-ku, Tokyo 1050004 (JP)
優先権情報:
2013-225799 30.10.2013 JP
発明の名称: (EN) METHOD OF SUPPRESSING FORMATION OF PHOTOCROSSLINK, AND PHOTOREACTIVE NUCLEIC ACID IN WHICH AUTO-CROSSLINK FORMATION IS SUPPRESSED
(FR) MÉTHODE EFFICACE D'ÉTABLISSEMENT DE CELLULES SOUCHES PLURIPOTENTES INDUITES
(JA) 光架橋形成抑制方法、及び自己架橋体形成抑制型光応答性核酸
要約: front page image
(EN)Provided is a means for preventing the inactivation of a photoresponsive nucleic acid probe by suppressing the formation of a photocrosslink between a photoresponsive base having a photocrosslinkable vinyl structure and a photocrosslinkable thymine (T) or uracil (U) base, by substituting with an R group (R being -CN or -CO-R1, where R1 is a saturated or unsaturated straight-chain or branched cyclic or non-cyclic C1-12 hydrocarbon group) the 5 position of a pyrimidine ring of the thymine (T) or uracil (U) base which is photocrosslinkable with the photoresponsive base having a photocrosslinkable vinyl structure.
(FR) La présente invention concerne un moyen permettant d'empêcher l'inactivation d'une sonde d'acide nucléique photosensible en supprimant la formation d'une photoréticulation entre une base photosensible comprenant une structure vinylique photoréticulable et une base thymine (T) ou uracile (U) photoréticulable, en substituant celles-ci par un groupe R (R représentant -CN ou -CO-R1, R1 représentant un groupe hydrocarbure en C1-12, cyclique ou non, ramifié ou à chaîne linéaire, saturé ou insaturé), la position 5 d'un cycle pyrimidine de la base thymine (T) ou uracile (U) qui est photoréticulable avec la base photosensible comprenant une structure vinylique photoréticulable.
(JA) 光架橋性のビニル構造を有する光応答性塩基に対して光架橋可能なチミン(T)又はウラシル(U)の塩基の、ピリミジン環の5位を、R基(ただし、Rは、-CN、又は-CO-R1であり、ただし、R1は、飽和又は不飽和の、鎖状又は分枝の、環式又は非環式の、C1~C12の炭化水素基である)に置換することによって、光架橋性のビニル構造を有する光応答性塩基と、光架橋可能なチミン(T)又はウラシル(U)の塩基との間の、光架橋形成を抑制することによって、光応答性核酸プローブの不活性化を防ぐ手段を提供する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)