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1. (WO2015064716) 有機薄膜パターニング装置、有機薄膜製造システム、及び、有機薄膜パターニング方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2015/064716    国際出願番号:    PCT/JP2014/078969
国際公開日: 07.05.2015 国際出願日: 30.10.2014
IPC:
H05B 33/10 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01)
出願人: KONICA MINOLTA, INC. [JP/JP]; 2-7-2, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1007015 (JP)
発明者: FUKUDA Kazuhiro; (JP).
TAKASHIMA Nobuhiko; (JP)
代理人: ISONO Michizo; (JP)
優先権情報:
2013-227695 31.10.2013 JP
発明の名称: (EN) ORGANIC THIN FILM PATTERNING DEVICE, ORGANIC THIN FILM PRODUCTION SYSTEM, AND ORGANIC THIN FILM PATTERNING METHOD
(FR) DISPOSITIF DE FORMATION DE MOTIFS DE COUCHES MINCES ORGANIQUES, SYSTÈME DE PRODUCTION DE COUCHES MINCES ORGANIQUES, ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS DE COUCHES MINCES ORGANIQUES
(JA) 有機薄膜パターニング装置、有機薄膜製造システム、及び、有機薄膜パターニング方法
要約: front page image
(EN)Provided is an organic thin film patterning device capable of forming a pattern on an organic thin film without using a mask, and capable of suppressing defects caused by the generation of particles. The organic thin film patterning device (30A) is provided with: a vacuum chamber (31) in which a substrate (2) having an organic thin film attached, which is a substrate (3) with an organic thin film formed thereupon, is stored; and a laser-beam source (32) that forms a pattern on the organic thin film by irradiating the substrate (2) having an organic thin film attached, which is inside the vacuum chamber (31), with a laser beam so as to remove the organic thin film at the location irradiated by the laser beam.
(FR)La présente invention concerne un dispositif de formation de motifs de couches minces organiques permettant de former un motif sur une couche mince organique sans utiliser de masque, et permettant de supprimer les défauts causés par une génération de particules. Le dispositif (30A) de formation de motifs de couches minces organiques est pourvu des éléments suivants : une chambre à vide (31) dans laquelle est stocké un substrat (2) ayant une couche mince organique fixée, qui est un substrat (3) sur lequel est formée une couche mince organique; et une source (32) de faisceau laser qui forme un motif sur la couche mince organique par exposition du substrat (2) ayant une couche mince organique fixée, qui est à l'intérieur de la chambre à vide (31), à un rayonnement d'un faisceau laser de manière à éliminer la couche mince organique au niveau de l'emplacement exposé au rayonnement par le faisceau laser.
(JA) マスクを用いることなく有機薄膜にパターンを形成することが可能であるとともに、パーティクルの発生に伴う不具合を抑制することが可能な有機薄膜パターニング装置を提供する。 有機薄膜パターニング装置(30A)は、基材(3)上に有機薄膜が形成された有機薄膜付基材(2)が収容される真空チャンバー(31)と、真空チャンバー(31)内の有機薄膜付基材(2)にレーザー光を照射することによって、レーザー光が照射された部位の有機薄膜を除去して有機薄膜にパターンを形成するレーザー光源(32)と、を備える。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)