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1. (WO2015064613) 基板保持装置、露光装置及びデバイス製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2015/064613    国際出願番号:    PCT/JP2014/078713
国際公開日: 07.05.2015 国際出願日: 29.10.2014
IPC:
H01L 21/683 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 12-1, Yurakucho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP)
発明者: SHIBAZAKI, Yuichi; (JP)
代理人: TATEISHI, Atsuji; (JP)
優先権情報:
2013-224843 30.10.2013 JP
発明の名称: (EN) SUBSTRATE-HOLDING APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) APPAREIL DE SUPPORT DE SUBSTRAT, APPAREIL D'EXPOSITION ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
(JA) 基板保持装置、露光装置及びデバイス製造方法
要約: front page image
(EN)This substrate-holding apparatus is provided with a substrate holder (WH) and a plurality of upwards/downwards-moving pin units (341, 342, 343). The substrate holder (WH) uses suction to hold a substrate (W). One end of each upwards/downwards-moving pin unit (341, 342, 343) has a suction part that applies suction to the bottom surface of the substrate, and in a state in which said suction parts are applying suction to the bottom surface of the substrate (W), the upwards/downwards-moving pin units (341, 342, 343) can move relative to the substrate holder (WH). At least parts of the upwards/downwards-moving pin units (341, 342, 343), including the aforementioned suction parts, are displaced in at least one direction by forces from the substrate (W) to which suction is being applied.
(FR)La présente invention concerne un appareil de support de substrat doté d'un support de substrat (WH) et d'une pluralité d'unités de broche se déplaçant vers le haut et vers le bas (341, 342, 343). Le support de substrat (WH) utilise l'aspiration pour tenir un substrat (W). Une extrémité de chaque unité de broche se déplaçant vers le haut et vers le bas (341, 342, 343) possède une partie aspiration qui applique une aspiration à la surface inférieure du substrat et, dans un état dans lequel lesdites parties aspiration appliquent l'aspiration à la surface inférieure du substrat (W), les unités de broche de déplacement vers le haut/vers le bas (341, 342, 343) peuvent se déplacer par rapport au support de substrat (WH). Au moins des parties des unités de broche se déplaçant vers le haut et vers le bas (341, 342, 343), comprenant les parties aspiration susmentionnées, sont déplacées dans au moins une direction par des forces issues du substrat (W) sur lequel l'aspiration est appliquée.
(JA) 基板保持装置は、基板(W)を吸着保持する基板ホルダ(WH)と、基板の裏面を吸着する吸着部を一端に有し、該吸着部で基板(W)の裏面を吸着した状態で、基板ホルダ(WH)に対して相対的に移動可能な複数の上下動ピンユニット(34、34、34)と、を備えている。複数の上下動ピンユニット(34、34、34)は、前記吸着部を含む少なくとも一部が前記吸着した基板(W)から受ける力の作用により少なくとも一方向に変位する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)