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1. (WO2015064604) 積層体、有機半導体製造用キットおよび有機半導体製造用レジスト組成物
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2015/064604    国際出願番号:    PCT/JP2014/078700
国際公開日: 07.05.2015 国際出願日: 29.10.2014
IPC:
G03F 7/021 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/008 (2006.01), G03F 7/012 (2006.01), G03F 7/11 (2006.01)
出願人: FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
発明者: IWAI Yu; (JP).
KOYAMA Ichiro; (JP).
KAMOCHI Yoshitaka; (JP).
MIZUTANI Kazuyoshi; (JP).
YOSHIDA Masafumi; (JP)
代理人: SIKS & CO.; 8th Floor, Kyobashi-Nisshoku Bldg., 8-7, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040031 (JP)
優先権情報:
2013-227039 31.10.2013 JP
発明の名称: (EN) LAYERED BODY, KIT FOR ORGANIC SEMICONDUCTOR PRODUCTION, AND RESIST COMPOSITION FOR ORGANIC SEMICONDUCTOR PRODUCTION
(FR) CORPS EN COUCHES, NÉCESSAIRE DE FABRICATION DE SEMI-CONDUCTEUR ORGANIQUE ET COMPOSITION DE RÉSERVE POUR LA FABRICATION DE SEMI-CONDUCTEUR ORGANIQUE
(JA) 積層体、有機半導体製造用キットおよび有機半導体製造用レジスト組成物
要約: front page image
(EN)Provided are: a layered body which makes it possible to form a favorable organic semiconductor pattern; a kit for organic semiconductor production which is used in order to produce said layered body; and a resist composition for organic semiconductor production which is used in the kit for organic semiconductor production. The layered body is one having an organic semiconductor film, a protective film on the organic semiconductor film, and a resist film on the protective film, wherein the resist film comprises a negative photosensitive resin composition containing a crosslinking agent (A) capable of crosslinking as a result of a photodenitrification reaction.
(FR)L'invention concerne : un corps en couches qui rend possible la formation de motif de semi-conducteur favorable ; un nécessaire de fabrication de semi-conducteur organique qui est utilisé pour fabriquer ledit corps en couches ; une composition de réserve pour la fabrication de semi-conducteur organique qui est utilisée dans le nécessaire de fabrication de semi-conducteur organique. Le corps en couches possède un film semi-conducteur organique, un film protecteur sur le film semi-conducteur organique et un film de réserve sur le film protecteur, le film de réserve comportant une composition de résine photosensible négative contenant un agent de réticulation (A) pouvant réticuler à la suite d'une réaction de photodénitrification.
(JA) 良好な有機半導体パターンを形成可能な積層体およびかかる積層体を製造するための、有機半導体製造用キット、ならびに、有機半導体製造用キットに用いる有機半導体製造用レジスト組成物の提供。 有機半導体膜と、上記有機半導体膜上の保護膜と、上記保護膜上のレジスト膜を有し、上記レジスト膜が、光脱窒素反応により架橋可能な架橋剤(A)を含むネガ型感光性樹脂組成物からなる積層体。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)