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1. (WO2015064555) 感光性樹脂組成物、パターンの製造方法、硬化膜、有機EL表示装置の製造方法、および液晶表示装置の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2015/064555    国際出願番号:    PCT/JP2014/078559
国際公開日: 07.05.2015 国際出願日: 28.10.2014
IPC:
G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01)
出願人: FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
発明者: FUJIMOTO Shinji; (JP).
YAMASHITA Shie; (JP).
ANDO Takeshi; (JP).
KASHIWAGI Daisuke; (JP).
FUJIKI Yuzo; (JP)
代理人: SIKS & CO.; 8th Floor, Kyobashi-Nisshoku Bldg., 8-7, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040031 (JP)
優先権情報:
2013-223294 28.10.2013 JP
2014-115070 03.06.2014 JP
発明の名称: (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN MANUFACTURING METHOD, CURED FILM, ORGANIC EL DISPLAY DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN MOTIF, FILM DURCI, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF D'AFFICHAGE EL ORGANIQUE, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF D'AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES
(JA) 感光性樹脂組成物、パターンの製造方法、硬化膜、有機EL表示装置の製造方法、および液晶表示装置の製造方法
要約: front page image
(EN)Provided are a photosensitive resin composition which has good sensitivity, line width stability and separability, a pattern manufacturing method, a cured film, and an organic EL display device and liquid crystal display device manufacturing method. Relative to the total solid content, this photosensitive resin composition contains 0.01-5 mass% of (A1) a polymer having a constituent unit (a1) represented by general expression (1), (B) a photoacid generator having a 500 or greater molar extinction coefficient in 365nm-wavelength light, and (C) an alicyclic epoxy compound. In general expression (1), R1 and R2 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, and at least one of R1 and R2 is an alkyl group or an aryl group; R3 represents an alkyl group or an aryl group, and may bind to R1 or R2 to form a cyclic ether; and R4 represents a hydrogen atom or a methyl group.
(FR)La présente invention concerne une composition de résine photosensible qui présente une bonne sensibilité, une bonne stabilité de largeur de ligne et une bonne séparabilité, un procédé de fabrication d'un motif, un film durci, et un procédé de fabrication d'un dispositif d'affichage EL organique et d'un dispositif d'affichage à cristaux liquides. Par rapport à la teneur totale en matières solides, cette composition de résine photosensible contient de 0,01 à 5 % en masse de (A1) un polymère possédant un motif constitutif (a1) représenté par l'expression générale (1), (B) un générateur photoacide possédant un coefficient d'extinction molaire supérieur ou égal à 500 sous une lumière de longueur d'onde de 365 nm et (C) un composé époxy alicyclique. Dans l'expression générale (1), R1 et R2 représentent indépendamment un atome d'hydrogène, un groupe alkyle ou un groupe aryle, et R1 et/ou R2 est un groupe alkyle ou un groupe aryle ; R3 représente un groupe alkyle ou un groupe aryle, et peut se lier à R1 ou R2 pour former un éther cyclique ; et R4 représente un atome d'hydrogène ou un groupe méthyle.
(JA) 感度、線幅安定性および剥離性が良好な感光性樹脂組成物、パターンの製造方法、硬化膜、ならびに有機EL表示装置および液晶表示装置の製造方法の提供。 (A1)下記一般式(1)で表される構成単位(a1)を有する重合体、(B)365nmの波長の光におけるモル吸光係数が500以上の光酸発生剤、および(C)脂環式エポキシ化合物を全固形分量に対して0.01~5質量%含む感光性樹脂組成物。一般式(1)中、R1およびR2はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基またはアリール基を表し、少なくともR1およびR2のいずれか一方がアルキル基またはアリール基であり、R3はアルキル基またはアリール基を表し、R1またはR2と、R3とが連結して環状エーテルを形成してもよく、R4は水素原子またはメチル基を表す。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)