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1. (WO2015064382) 液体処理装置および随伴水処理方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2015/064382    国際出願番号:    PCT/JP2014/077655
国際公開日: 07.05.2015 国際出願日: 17.10.2014
IPC:
C02F 1/78 (2006.01), B01F 1/00 (2006.01), C01B 13/10 (2006.01), C01B 15/027 (2006.01), C02F 1/48 (2006.01), C02F 1/72 (2006.01), H05H 1/24 (2006.01)
出願人: TOKYO INSTITUTE OF TECHNOLOGY [JP/JP]; 2-12-1, Ookayama, Meguro-ku, Tokyo 1528550 (JP).
JAPAN OIL, GAS AND METALS NATIONAL CORPORATION [JP/JP]; 2-10-1, Toranomon, Minato-ku, Tokyo 1050001 (JP)
発明者: YASUOKA, Koichi; (JP).
ISHIGURO, Takahiro; (JP).
KAWAMURA, Kazuyuki; (JP)
代理人: MORISHITA Sakaki; (JP)
優先権情報:
2013-228119 01.11.2013 JP
発明の名称: (EN) LIQUID TREATMENT APPARATUS AND PRODUCED WATER TREATMENT METHOD
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT DE LIQUIDE ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT D'EAU PRODUITE
(JA) 液体処理装置および随伴水処理方法
要約: front page image
(EN)A treatment vessel (10) houses therein a liquid (2) to be treated. An OH radical/hydrogen peroxide supply device (20) generates OH radicals by plasma discharge and supplies hydrogen peroxide H2O2 generated by the bonding of OH radicals to the inside of the treatment vessel (10). An ozone supply device (30) supplies ozone O3 to the inside of the treatment vessel (10). In the treatment vessel (10), the accelerated oxidation treatment of an organic material with each of O3 and OH radicals proceeds and OH radicals are generated secondarily through the reaction of O3 with H2O2.
(FR)L'invention concerne un récipient de traitement (10) qui contient un liquide (2) à traiter. Un dispositif d'alimentation en radicaux OH/peroxyde d'hydrogène (20) produit des radicaux OH par décharge de plasma et alimente l'intérieur du récipient de traitement (10) en peroxyde d'hydrogène H2O2 produit par la liaison des radicaux OH. Un dispositif d'alimentation en ozone (30) alimente en ozone O3 l'intérieur du récipient de traitement (10). Dans le récipient de traitement (10), le traitement d'oxydation accéléré d'une matière organique avec O3 et les radicaux OH a lieu et des radicaux OH sont produits secondairement par réaction de O3 avec H2O2.
(JA) 処理槽10は、処理対象の液体2を収容する。OHラジカル・過酸化水素供給装置20は、プラズマ放電によりOHラジカルを生成し、OHラジカルの結合により生ずる過酸化水素Hを処理槽10の内部に供給する。オゾン供給装置30は、処理槽10の内部にオゾンOを供給する。処理槽10内において、O、OHラジカルそれぞれによる有機物の促進酸化処理が進行するとともに、OとHの反応により2次的にOHラジカルが生成される。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)