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1. (WO2015063825) 極端紫外光生成装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2015/063825    国際出願番号:    PCT/JP2013/079092
国際公開日: 07.05.2015 国際出願日: 28.10.2013
IPC:
H01L 21/027 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), H05G 2/00 (2006.01)
出願人: GIGAPHOTON INC. [JP/JP]; 400, Yokokurashinden, Oyama-shi, Tochigi 3238558 (JP)
発明者: IWAMOTO Fumio; (JP).
SHIRAISHI Yutaka; (JP).
HORI Tsukasa; (JP).
ISHII Takuya; (JP)
代理人: EBISU INTERNATIONAL PATENT OFFICE; Gate City Ohsaki,East Tower 22F,11-2 Osaki 1-chome,Shinagawa-ku, Tokyo 1410032 (JP)
優先権情報:
発明の名称: (EN) EUV-LIGHT GENERATION DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE GÉNÉRATION DE LUMIÈRE EUV
(JA) 極端紫外光生成装置
要約: front page image
(EN)This EUV-light generation device, which allows efficient target retrieval, may be provided with the following: a chamber in which EUV light is generated when a target inside said chamber is exposed to laser light; a target-feeding unit that feeds a target into the chamber; and a target-retrieving unit whereby a target that was fed into the chamber by the target-feeding unit but was not exposed to the aforementioned laser light is received on a receiving surface that contacts said target at an angle greater than 90° and is retrieved into a retrieval container.
(FR)L'invention porte sur un dispositif de génération de lumière EUV, permettant une extraction de cible efficace, qui peut comprendre les éléments suivants : une chambre dans laquelle la lumière EUV est générée lorsqu'une cible à l'intérieur de ladite chambre est présentée à une lumière laser; une unité d'alimentation de cible qui alimente une cible dans la chambre; et une unité d'extraction de cible selon laquelle une cible qui était alimentée dans la chambre par l'unité d'alimentation de cible mais n'était pas présentée à la lumière laser susmentionnée est reçue sur une surface de réception qui est en contact avec ladite cible à un angle supérieur à 90° et est extraite dans un conteneur d'extraction.
(JA) ターゲットを効率的に回収し得る。 極端紫外光生成装置は、内部でターゲットにレーザ光が照射されると極端紫外光が生成されるチャンバと、前記チャンバの内部に前記ターゲットを供給するターゲット供給部と、前記ターゲット供給部によって供給され前記レーザ光が照射されなかった前記ターゲットを、前記ターゲットとの接触角が90°より大きい受面で受けて回収容器内に回収するターゲット回収部と、を備えてもよい。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)