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1. WO2015025787 - 感光性ガラス基板の製造方法

公開番号 WO/2015/025787
公開日 26.02.2015
国際出願番号 PCT/JP2014/071390
国際出願日 13.08.2014
IPC
C03C 15/00 2006.01
C化学;冶金
03ガラス;鉱物またはスラグウール
Cガラス,うわ薬またはガラス質ほうろうの化学組成;ガラスの表面処理;ガラス,鉱物またはスラグ製の繊維またはフィラメントの表面処理;ガラスのガラスまたは他物質への接着
15繊維やフィラメントの形態をとらないガラスの,エッチングによる表面処理
C03C 23/00 2006.01
C化学;冶金
03ガラス;鉱物またはスラグウール
Cガラス,うわ薬またはガラス質ほうろうの化学組成;ガラスの表面処理;ガラス,鉱物またはスラグ製の繊維またはフィラメントの表面処理;ガラスのガラスまたは他物質への接着
23繊維やフィラメントの形態をとらない繊維以外のガラスのその他の表面処理
CPC
C03B 32/00
CCHEMISTRY; METALLURGY
03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
32Thermal after-treatment of glass products not provided for in groups ; C03B19/00; , C03B25/00 - C03B31/00 ; or C03B37/00; , e.g. crystallisation, eliminating gas inclusions or other impurities; ; Hot-pressing vitrified, non-porous, shaped glass products
C03C 15/00
CCHEMISTRY; METALLURGY
03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES, OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
15Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
C03C 23/0025
CCHEMISTRY; METALLURGY
03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES, OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
23Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
0005by irradiation
0025by a laser beam
C03C 3/095
CCHEMISTRY; METALLURGY
03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES, OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
3Glass compositions
04containing silica
076with 40% to 90% silica, by weight
095containing rare earths
C03C 4/04
CCHEMISTRY; METALLURGY
03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES, OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
4Compositions for glass with special properties
04for photosensitive glass
G03F 7/2051
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
20Exposure; Apparatus therefor
2051Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source
出願人
  • HOYA株式会社 HOYA CORPORATION [JP/JP]; 東京都新宿区中落合二丁目7番5号 7-5, Nakaochiai 2-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1618525, JP
発明者
  • 伏江 隆 FUSHIE Takashi; JP
代理人
  • 阿仁屋 節雄 ANIYA Setuo; JP
優先権情報
2013-17387223.08.2013JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOSENSITIVE GLASS SUBSTRATE
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN SUBSTRAT EN VERRE PHOTOSENSIBLE
(JA) 感光性ガラス基板の製造方法
要約
(EN)
A method for manufacturing a photosensitive glass substrate is characterized by comprising: an irradiation step for directly irradiating a plate-shaped base material composed of photosensitive glass with an energy beam to form a latent image; a crystallization step for crystallizing the latent image by first heat treatment to obtain a crystallized portion; and a microfabrication step for performing microfabrication by dissolving and removing the crystallized portion to obtain the photosensitive glass substrate, and in that in the irradiation step, the irradiation position of the energy beam is corrected on the basis of the amount of dimensional change of the photosensitive glass caused by heat treatment including at least the first heat treatment.
(FR)
Procédé de fabrication d'un substrat en verre photosensible, caractérisé en ce qu'il comprend une étape d'irradiation pour irradier directement un matériau de base en forme de plaque, composé de verre photosensible, avec un faisceau d'énergie pour former une image latente ; une étape de cristallisation pour cristalliser l'image latente par un premier traitement thermique, dans le but d'obtenir une portion cristallisée ; et une étape de microfabrication pour mettre en œuvre une microfabrication par dissolution et élimination de la portion cristallisée dans le but d'obtenir le substrat en verre photosensible, et en ce que, dans l'étape d'irradiation, la position d'irradiation du faisceau d'énergie est corrigée sur la base de la quantité de changement dimensionnel du verre photosensible provoqué par le traitement thermique, y compris au moins le premier traitement thermique.
(JA)
 感光性ガラスから構成される板状基材に直接的にエネルギービームを照射して潜像を形成する照射工程と、第1熱処理により潜像を結晶化して結晶化部分を得る結晶化工程と、結晶化部分を溶解除去して微細加工を行い、感光性ガラス基板を得る微細加工工程と、を有し、照射工程において、少なくとも第1熱処理を含む熱処理に起因する感光性ガラスの寸法変化量に基づいて、エネルギービームの照射位置を補正することを特徴とする感光性ガラス基板の製造方法である。
他の公開
DE1120140038660
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