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1. WO2015025691 - 光干渉計を製造する方法

公開番号 WO/2015/025691
公開日 26.02.2015
国際出願番号 PCT/JP2014/070219
国際出願日 31.07.2014
IPC
G01J 3/45 2006.01
G物理学
01測定;試験
J赤外線,可視光線または紫外線の強度,速度,スペクトル,偏光,位相またはパルスの測定;色の測定;放射温度測定
3分光測定;分光光度測定;モノクロメータ;色の測定
28スペクトルの調査
45干渉分光測定
B81C 1/00 2006.01
B処理操作;運輸
81マイクロ構造技術
Cマイクロ構造装置またはシステムの製造または処理に,特に適合した方法または装置
1基層中または基層上での装置またはシステムの製造または処理
G01B 9/02 2006.01
G物理学
01測定;試験
B長さ,厚さまたは同種の直線寸法の測定;角度の測定;面積の測定;表面または輪郭の不規則性の測定
9このサブグループに記述され,かつ光学的測定手段の使用によって特徴づけられた計器
02干渉計
CPC
G01B 9/02051
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
9Instruments as specified in the subgroups and characterised by the use of optical measuring means
02Interferometers ; for determining dimensional properties of, or relations between, measurement objects
02049characterised by particular mechanical design details
02051Integrated design, e.g. on-chip or monolithic
G01J 3/0256
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRA-RED, VISIBLE OR ULTRA-VIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
3Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
02Details
0256Compact construction
G01J 3/4532
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRA-RED, VISIBLE OR ULTRA-VIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
3Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
28Investigating the spectrum
45Interferometric spectrometry
453by correlation of the amplitudes
4532Devices of compact or symmetric construction
G01J 3/4535
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRA-RED, VISIBLE OR ULTRA-VIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
3Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
28Investigating the spectrum
45Interferometric spectrometry
453by correlation of the amplitudes
4535Devices with moving mirror
出願人
  • 浜松ホトニクス株式会社 HAMAMATSU PHOTONICS K.K. [JP/JP]; 静岡県浜松市東区市野町1126番地の1 1126-1, Ichino-cho, Higashi-ku, Hamamatsu-shi, Shizuoka 4358558, JP
発明者
  • 鈴木 智史 SUZUKI Tomofumi; JP
  • 藁科 禎久 WARASHINA Yoshihisa; JP
  • 笠森 浩平 KASAMORI Kohei; JP
  • 杉本 達哉 SUGIMOTO Tatsuya; JP
  • 伊藤 穣 ITO Jo; JP
代理人
  • 長谷川 芳樹 HASEGAWA Yoshiki; JP
優先権情報
2013-16947919.08.2013JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL INTERFEROMETER
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN INTERFÉROMÈTRE OPTIQUE
(JA) 光干渉計を製造する方法
要約
(EN)
This method for manufacturing an optical interferometer is provided with: a first step for forming a first semiconductor section for a beam splitter, and a second semiconductor section for a movable mirror, said first semiconductor section and second semiconductor section being formed on a main surface of a supporting substrate, and a first insulating layer formed on the main surface; a second step for disposing a first wall section between a first side surface of the first semiconductor section, and a second side surface of the second semiconductor section; and a third step for forming a mirror surface on the second semiconductor section by forming a first metal film on the second side surface using a shadow mask. In the third step, the first side surface is masked by means of a mask section and the first wall section, and in a state wherein the second side surface is exposed from an opening, the first metal film is formed.
(FR)
La présente invention concerne un procédé de fabrication d'un interféromètre optique qui comprend : une première étape permettant de former une première section à semi-conducteur pour un diviseur de faisceau, et une seconde section à semi-conducteur pour un miroir mobile, ladite première section à semi-conducteur et ladite seconde section à semi-conducteur étant formées sur une surface principale d'un substrat de support, et une première couche isolante formée sur la surface principale ; une deuxième étape permettant de disposer une première section paroi entre une première surface latérale de la première section à semi-conducteur, et une seconde surface latérale de la seconde section à semi-conducteur ; et une troisième étape permettant de former une surface de miroir sur la seconde section à semi-conducteur en formant un premier film métallique sur la seconde surface latérale à l'aide d'un masque d'ombrage. Dans la troisième étape, la première surface latérale est masquée au moyen d'une section masque et de la première section paroi, et dans un état dans lequel la seconde surface latérale est exposée depuis une ouverture, le premier film métallique est formé.
(JA)
 光干渉計を製造する方法は、ビームスプリッタのための第1の半導体部と、可動ミラーのための第2の半導体部とを、支持基板の主面、及び主面上に形成された第1の絶縁層上に形成する第1の工程と、第1の半導体部の第1の側面と、第2の半導体部における第2の側面との間に、第1の壁部を配置する第2の工程と、シャドウマスクを用いて第2の側面に第1の金属膜を成膜することにより、第2の半導体部にミラー面を形成する第3の工程とを備える。第3の工程においては、マスク部と第1の壁部とによって第1の側面をマスクすると共に、開口部から第2の側面を露出させた状態において、第1の金属膜を成膜する。
他の公開
KR1020167006628
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