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1. WO2015025545 - 隔膜取付部材および荷電粒子線装置

公開番号 WO/2015/025545
公開日 26.02.2015
国際出願番号 PCT/JP2014/056095
国際出願日 10.03.2014
IPC
H01J 37/16 2006.01
H電気
01基本的電気素子
J電子管または放電ランプ
37放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
02細部
16うつわ;容器
H01J 37/18 2006.01
H電気
01基本的電気素子
J電子管または放電ランプ
37放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
02細部
18真空封止
H01J 37/28 2006.01
H電気
01基本的電気素子
J電子管または放電ランプ
37放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
26電子またはイオン顕微鏡;電子またはイオン回折管
28走査ビームを有するもの
CPC
G01M 3/02
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
MTESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
3Investigating fluid-tightness of structures
02by using fluid or vacuum
H01J 2237/188
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
18Vacuum control means
188Differential pressure
H01J 2237/2002
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
20Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
2002Controlling environment of sample
H01J 2237/2006
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
20Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
2005Seal mechanisms
2006Vacuum seals
H01J 2237/2605
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
26Electron or ion microscopes
2602Details
2605operating at elevated pressures, e.g. atmosphere
H01J 2237/2608
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
26Electron or ion microscopes
2602Details
2605operating at elevated pressures, e.g. atmosphere
2608with environmental specimen chamber
出願人
  • 株式会社 日立ハイテクノロジーズ HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西新橋一丁目24番14号 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717, JP
発明者
  • 河西 晋佐 KAWANISHI Shinsuke; JP
  • 大南 祐介 OMINAMI Yusuke; JP
  • 鈴木 宏征 SUZUKI Hiroyuki; JP
  • 安島 雅彦 AJIMA Masahiko; JP
代理人
  • 井上 学 INOUE Manabu; 東京都千代田区丸の内一丁目6番1号 株式会社日立製作所内 c/o HITACHI, LTD., 6-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008220, JP
優先権情報
2013-17282323.08.2013JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) DIAPHRAGM MOUNTING MEMBER AND CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE
(FR) ÉLÉMENT DE MONTAGE DE MEMBRANE ET DISPOSITIF À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES
(JA) 隔膜取付部材および荷電粒子線装置
要約
(EN)
 Conventional devices have been difficult to use due to insufficient consideration being given to factors such as the cost necessary for diaphragm replacement and the convenience of the work. In the present invention, a diaphragm mounting member (155) installed in a charged particle beam device for radiating a primary charged particle beam through a diaphragm (10) separating a vacuum space and an atmospheric pressure space onto a sample placed in the atmospheric pressure space is provided with a diaphragm installation portion to which a TEM membrane is mounted and a casing fixing portion mounted on a casing of the charged particle beam device. The diaphragm installation portion has a positioning structure (155a) for positioning a platform (9) on which the diaphragm (10) is held.
(FR)
 Des dispositifs conventionnels ont été difficiles à utiliser en raison du fait qu'une considération insuffisante est donnée à des facteurs tels que le coût nécessaire pour un remplacement de membrane et la commodité du travail. Selon la présente invention, un élément de montage de membrane (155) installé dans un dispositif à faisceau de particules chargées pour un rayonnement d’un faisceau de particules chargées primaire à travers une membrane (10) séparant un espace sous vide et un espace à pression atmosphérique sur un échantillon placé dans l’espace à pression atmosphérique est pourvu d'une partie d’installation de membrane sur laquelle une membrane TEM est montée et une partie de fixation de boîtier montée sur un boîtier du dispositif à faisceau de particules chargées. La partie d’installation de membrane possède une structure de positionnement (155a) pour positionner une plateforme (9) sur laquelle la membrane (10) est maintenue.
(JA)
 従来は隔膜交換に際して必要になるコストや作業の利便性などが十分考慮されていなかったため、装置が使いにくいものとなっていた。本発明では、真空空間と大気圧空間とを隔離する隔膜(10)を通過して一次荷電粒子線を大気圧空間に置かれた試料上に照射する荷電粒子線装置に設置される隔膜取付部材(155)は、TEM用メンブレンが取り付けられる隔膜設置部位と、荷電粒子線装置の筐体に取り付けられる筐体固定部位と、を備える。また、この隔膜設置部位は隔膜(10)が保持された土台(9)の位置決めをする位置決め構造(155a)を有する。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報