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1. WO2015025534 - 自己洗浄槽保有型膜ろ過装置

公開番号 WO/2015/025534
公開日 26.02.2015
国際出願番号 PCT/JP2014/053143
国際出願日 12.02.2014
IPC
C02F 1/44 2006.01
C化学;冶金
02水,廃水,下水または汚泥の処理
F水,廃水,下水または汚泥の処理
1水,廃水または下水の処理
44透析,浸透または逆浸透によるもの
B01D 65/06 2006.01
B処理操作;運輸
01物理的または化学的方法または装置一般
D分離
65半透膜を用いる分離工程または装置のための付属品または補助操作
02膜の洗浄または滅菌
06特別の洗浄剤によるもの
B01D 65/10 2006.01
B処理操作;運輸
01物理的または化学的方法または装置一般
D分離
65半透膜を用いる分離工程または装置のための付属品または補助操作
10膜または膜装置の試験;漏洩の検出または補修
CPC
B01D 2311/24
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
DSEPARATION
2311Details relating to membrane separation process operations and control
24Quality control
B01D 2321/04
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
DSEPARATION
2321Details relating to membrane cleaning, regeneration, sterilization or to the prevention of fouling
04Backflushing
B01D 2321/16
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
DSEPARATION
2321Details relating to membrane cleaning, regeneration, sterilization or to the prevention of fouling
16Use of chemical agents
B01D 2321/18
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
DSEPARATION
2321Details relating to membrane cleaning, regeneration, sterilization or to the prevention of fouling
18Use of gases
B01D 65/02
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
DSEPARATION
65Accessories or auxiliary operations, in general, for separation processes or apparatus using semi-permeable membranes
02Membrane cleaning or sterilisation ; ; Membrane regeneration
C02F 1/008
CCHEMISTRY; METALLURGY
02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
1Treatment of water, waste water, or sewage
008Control or steering systems not provided for elsewhere in subclass C02F
出願人
  • アタカ大機株式会社 DAIKI ATAKA ENGINEERING CO.,LTD. [JP/JP]; 大阪府大阪市此花区西九条5丁目3番28号 3-28, Nishi-kujyo 5-chome, Konohana-ku, Osaka-shi, Osaka 5540012, JP
発明者
  • 櫻井 正伸 SAKURAI, Masanobu; JP
代理人
  • 来代 哲男 KITADAI, Tetsuo; 大阪府大阪市淀川区西中島5丁目13番12号谷ビル2F B室 Tanibiru 2nd Fl. B, 13-12, Nishinakajima 5-chome, Yodogawa-ku, Osaka-shi, Osaka 5320011, JP
優先権情報
2013-17119021.08.2013JP
2013-26335720.12.2013JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) SELF-CLEANING RETENTION TANK TYPE MEMBRANE FILTRATION DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE FILTRATION À MEMBRANE AVEC RÉSERVOIR AUTONETTOYANT
(JA) 自己洗浄槽保有型膜ろ過装置
要約
(EN)
Provided is a self-cleaning retention tank type membrane filtration device that allows the injection of a cleaning solution to be efficiently performed equally to each membrane module and the sampling of membrane filtration water from each membrane module to be performed equally for each membrane module without bias. A backwash measuring tank (4) is housed in a cleaning water tank (3), and a water passage space (60) is formed between the inner wall of the cleaning water tank (3) and the outer wall of the backwash measuring tank (4). A communicating hole (4a) by which the backwash measuring tank (4) and the water passage space (60) communicate is formed on the bottom of the backwash measuring tank (4). A plurality of membrane modules (7) are provided standing on the exterior side of the cleaning water tank (3). A piping member (49) comprising a tube (51) is provided in the backwash measuring tank (4). The tube (51) has a double-tube structure in which a membrane filtration water sampling tube (51b) is disposed in a cleaning solution injection tube (51a). The tube (51) is disposed so as to extend vertically and so that the bottom end thereof is positioned near the communicating hole (4a).
(FR)
L'invention fournit un dispositif de filtration à membrane avec réservoir autonettoyant qui permet d'effectuer selon un bon rendement une injection chimique de manière égale dans chaque module de membrane, et d'effectuer de manière égale et sans déséquilibre une filtration d'eau à partir de et vis-à-vis de chaque module de membrane lors d'un échantillonnage. Un réservoir de mesure à lavage à contre-courant (4) est admis à l'intérieur d'un réservoir d'eau de lavage (3), un espace de passage d'eau (60) est formé entre la paroi interne du réservoir d'eau de lavage (3) et la paroi externe du réservoir de mesure à lavage à contre-courant (4). Un orifice de communication (4a) qui met en communication le réservoir de mesure à lavage à contre-courant (4) et l'espace de passage d'eau (60), est formé dans la partie fond du réservoir de mesure à lavage à contre-courant (4). La pluralité de modules de membrane (7) est agencée debout côté externe du réservoir d'eau de lavage (3). Un élément conduite (49) équipé d'un corps tubulaire (51), est agencé à l'intérieur du réservoir de mesure à lavage à contre-courant (4). Le corps tubulaire (51), possède une structure à double tubes dans laquelle un tube d'échantillonnage pour filtration d'eau (51b) est disposé côté interne d'un tube d'injection chimique (51a). Le corps tubulaire (51) est placé de sorte qu'il se prolonge verticalement, et que sa partie extrémité inférieure est positionnée à proximité de l'orifice de communication (4a).
(JA)
 薬液注入を効率良く且つ各膜モジュールに対して均等に行うこと及び、各膜モジュールから膜ろ過水をサンプリングするに際して各膜モジュールに対して偏ることなく均等に行うことを可能にした自己洗浄槽保有型膜ろ過装置を提供する。 逆洗計量槽4が洗浄水槽3内に収納され、洗浄水槽3の内壁と逆洗計量槽4の外壁との間に通水路空間60が形成されている。逆洗計量槽4の底部には、逆洗計量槽4と通水路空間60とを連通する連通孔4aが形成されている。洗浄水槽3の外側には複数の膜モジュール7が立設されている。逆洗計量槽4内には、管体51を備えた配管部材49が設けられている。管体51は、薬液注入管51aの内側に膜ろ過水サンプリング管51bが配置された2重管構造を有する。管体51は上下に延び且つその下端部が連通孔4aの近傍に位置するように配設されている。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報