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1. WO2015025525 - 透明導電体

公開番号 WO/2015/025525
公開日 26.02.2015
国際出願番号 PCT/JP2014/004334
国際出願日 22.08.2014
IPC
H01B 5/14 2006.01
H電気
01基本的電気素子
Bケーブル;導体;絶縁体;導電性,絶縁性または誘導性特性に対する材料の選択
5形を特徴とする非絶縁導体または導電物体
14絶縁支持体上に導電層または導電フイルムを有するもの
B32B 7/02 2006.01
B処理操作;運輸
32積層体
B積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
7層間の関係を特徴とする積層体;層間の特性の相対的な方向性,または層間の測定可能なパラメータの相対的な値を特徴とする積層体,すなわち層間で異なる物理的,化学的または物理化学的性質を有する積層体;層の相互結合を特徴とする積層体
02物理的,化学的または物理化学的性質
B32B 15/04 2006.01
B処理操作;運輸
32積層体
B積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
15本質的に金属からなる積層体
04層の主なまたは唯一の構成要素が金属からなり,特定物質の他の層に隣接したもの
C23C 14/06 2006.01
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
14被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
06被覆材料に特徴のあるもの
G06F 3/041 2006.01
G物理学
06計算;計数
F電気的デジタルデータ処理
3計算機で処理しうる形式にデータを変換するための入力装置;処理ユニットから出力ユニットへデータを転送するための出力装置,例.インタフェース装置
01ユーザーと計算機との相互作用のための入力装置または入力と出力が結合した装置
03器具の位置または変位をコード信号に変換するための装置
041変換手段によって特徴付けられたデジタイザー,例.タッチスクリーンまたはタッチパッド用のもの
G06F 3/044 2006.01
G物理学
06計算;計数
F電気的デジタルデータ処理
3計算機で処理しうる形式にデータを変換するための入力装置;処理ユニットから出力ユニットへデータを転送するための出力装置,例.インタフェース装置
01ユーザーと計算機との相互作用のための入力装置または入力と出力が結合した装置
03器具の位置または変位をコード信号に変換するための装置
041変換手段によって特徴付けられたデジタイザー,例.タッチスクリーンまたはタッチパッド用のもの
044容量性手段によるもの
CPC
B32B 15/04
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
15Layered products comprising ; a layer of; metal
04comprising metal as the main or only constituent of a layer, ; which is next to another layer of the same or of a different material
B32B 2307/202
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
2307Properties of the layers or laminate
20having particular electrical or magnetic properties, e.g. piezoelectric
202Conductive
B32B 2307/412
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
2307Properties of the layers or laminate
40having particular optical properties
412Transparent
B32B 2307/418
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
2307Properties of the layers or laminate
40having particular optical properties
418Refractive
B32B 2457/20
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
2457Electrical equipment
20Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
C23C 14/0629
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
06characterised by the coating material
0623Sulfides, selenides or tellurides
0629of zinc, cadmium or mercury
出願人
  • コニカミノルタ株式会社 KONICA MINOLTA, INC. [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内二丁目7番2号 2-7-2, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1007015, JP
発明者
  • 多田 一成 TADA, Kazunari; null
  • 粕谷 仁一 KASUYA, Jinichi; null
代理人
  • 鷲田 公一 WASHIDA, Kimihito; JP
優先権情報
2013-17334723.08.2013JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) TRANSPARENT CONDUCTIVE BODY
(FR) CORPS CONDUCTEUR TRANSPARENT
(JA) 透明導電体
要約
(EN)
The present invention addresses an issue of providing a transparent conductive body, wherein a pattern of a conductive region is not easily viewed, a surface electrical resistance value of the conductive region is low, and flexibility is high. In order to solve the issue, a transparent conductive body of the present invention includes, in the following order: a transparent substrate; a first high refractive index layer containing a dielectric material or an oxide semiconductor material, which has a higher refractive index with respect to light having a wavelength of 570 nm than a refractive index of the transparent substrate with respect to light having a wavelength of 570 nm; a transparent metal film having a thickness of 10 nm or less; and a second high refractive index layer, which has a thickness of 15 nm or more, and which contains ZnS. The transparent conductive body has an average transmission rate of 80 % or more with respect to light having a wavelength of 400-1,000 nm.
(FR)
Le problème décrit par la présente invention est de produire un corps conducteur transparent dans lequel un motif d'une région conductrice ne soit pas facilement visible, une valeur de résistance électrique de surface de la région conductrice soit basse, et la souplesse soit grande. Pour résoudre le problème, la solution de la présente invention porte sur un corps conducteur transparent qui comprend, dans l'ordre suivant: un substrat transparent; une première couche à indice de réfraction élevé contenant un matériau diélectrique ou un matériau semi-conducteur oxyde, qui possède un indice de réfraction, relativement à de la lumière ayant une longueur d'onde de 570 nm, supérieur à un indice de réfraction du substrat transparent relativement à la lumière ayant une longueur d'onde de 570 nm; un film métallique transparent ayant une épaisseur de 10 nm ou moins; et une seconde couche à indice de réfraction élevé, qui possède une épaisseur de 15 nm ou plus et qui contient ZnS. Le corps conducteur transparent possède un coefficient de transmission moyen de 80% ou plus relativement à de la lumière ayant une longueur d'onde de 400-1000 nm.
(JA)
 本発明は、導通領域のパターンが視認され難く、導通領域の表面電気抵抗値が低く、かつフレキシブル性の高い透明導電体を提供することを課題とする。 このような課題に対し、本発明では、透明基板と、前記透明基板の波長570nmの光の屈折率より、波長570nmの光の屈折率が高い誘電性材料または酸化物半導体材料を含む第一高屈折率層と、厚みが10nm以下である透明金属膜と、厚みが15nm以上であり、かつZnSを含む第二高屈折率層と、をこの順に含み、波長400~1000nmの光の平均透過率が80%以上である、透明導電体とする。
他の公開
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