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1. WO2015022966 - 低散乱シリカガラスおよびシリカガラスの熱処理方法

公開番号 WO/2015/022966
公開日 19.02.2015
国際出願番号 PCT/JP2014/071329
国際出願日 12.08.2014
IPC
C03B 37/15 2006.01
C化学;冶金
03ガラス;鉱物またはスラグウール
Bガラス、鉱物またはスラグウールの製造または成形;または、ガラス、鉱物またはスラグウールの製造または成形における補助プロセス
37軟化されたガラス,鉱物またはスラグからのフレーク,繊維またはフィラメントの製造または処理
10非化学的処理
14繊維またはフィラメントの再形成
15加熱によるもの,例.光ファイバを作るためのもの
C03B 20/00 2006.01
C化学;冶金
03ガラス;鉱物またはスラグウール
Bガラス、鉱物またはスラグウールの製造または成形;または、ガラス、鉱物またはスラグウールの製造または成形における補助プロセス
20石英または溶融シリカ物品の製造に特に適合したプロセス
C03B 37/10 2006.01
C化学;冶金
03ガラス;鉱物またはスラグウール
Bガラス、鉱物またはスラグウールの製造または成形;または、ガラス、鉱物またはスラグウールの製造または成形における補助プロセス
37軟化されたガラス,鉱物またはスラグからのフレーク,繊維またはフィラメントの製造または処理
10非化学的処理
CPC
C03B 19/1453
CCHEMISTRY; METALLURGY
03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
19Other methods of shaping glass
14by gas- ; or vapour-; phase reaction processes
1453Thermal after-treatment of the shaped article, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
C03B 2201/04
CCHEMISTRY; METALLURGY
03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
2201Type of glass produced
02Pure silica glass, e.g. pure fused quartz
03Impurity concentration specified
04Hydroxyl ion (OH)
C03B 2201/075
CCHEMISTRY; METALLURGY
03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
2201Type of glass produced
06Doped silica-based glasses
07Impurity concentration specified
075Hydroxyl ion (OH)
C03B 2201/31
CCHEMISTRY; METALLURGY
03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
2201Type of glass produced
06Doped silica-based glasses
30doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
31doped with germanium
C03B 2201/42
CCHEMISTRY; METALLURGY
03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
2201Type of glass produced
06Doped silica-based glasses
30doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
40doped with transition metals other than rare earth metals, e.g. Zr, Nb, Ta or Zn
42doped with titanium
C03B 2205/56
CCHEMISTRY; METALLURGY
03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
2205Fibre drawing or extruding details
56Annealing or re-heating the drawn fibre prior to coating
出願人
  • 旭硝子株式会社 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内一丁目5番1号 5-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405, JP
発明者
  • 小野 円佳 ONO, Madoka; JP
  • 伊藤 節郎 ITO, Setsuro; JP
  • 本間 脩 HONMA, Osamu; JP
  • 網野 陽介 AMINO, Yousuke; JP
代理人
  • 泉名 謙治 SENMYO, Kenji; JP
優先権情報
2013-16895015.08.2013JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) LOW SCATTERING SILICA GLASS, AND METHOD FOR THERMALLY TREATING SILICA GLASS
(FR) VERRE DE SILICE À FAIBLE DIFFUSION, ET PROCÉDÉ POUR TRAITER DE FAÇON THERMIQUE LE VERRE DE SILICE
(JA) 低散乱シリカガラスおよびシリカガラスの熱処理方法
要約
(EN)
Provided is a low scattering silica glass which is suitable as a material for an optical communication fiber. A silica glass having a fictive temperature of 1000°C or higher and having a pore radius of 0.240 nm or less as observed by a positron annihilation lifetime method. A method for thermally treating a silica glass, said method comprising holding the silica glass to be thermally treated under an atmosphere having a temperature ranging from 1200 to 2000°C inclusive and a pressure of 30 MPa or more and then cooling the silica glass, wherein the procedure for cooling the silica glass from 1200 to 900°C is carried out at an average temperature-lowering rate of 40°C/min or more. A method for thermally treating a silica glass, said method comprising holding the silica glass to be thermally treated under an atmosphere having a temperature ranging from 1200 to 2000°C inclusive and a pressure of 140 MPa or more and then cooling the silica glass, wherein the procedure for cooling the silica glass from 1200 to 900°C is carried out under an atmosphere having a pressure of 140 MPa or more.
(FR)
L'invention concerne un verbe de silice à faible diffusion qui est approprié comme matière pour une fibre de communication optique. Un verre de silice ayant une température fictive de 1000°C ou plus et ayant un rayon de pore de 0,240 nm ou moins tel que observé par une méthode de mesure de temps de vie d'annihilation des positons. Un procédé de traitement thermique d'un verre de silice, ledit procédé comprenant le maintien du verre de silice devant être traité de façon thermique dans une atmosphère ayant une température se situant dans la plage de 1200 à 2000°C, bornes incluses, et une pression de 30 MPa ou plus, puis le refroidissement du verre de silice, le mode opératoire du refroidissement du verre de silice de 1200 à 900°C étant effectué à une vitesse de diminution de température moyenne de 40°C/min ou plus. Un procédé de traitement de façon thermique d'un verre de silice, ledit procédé comprenant le maintien du verre de silice devant être traité de façon thermique dans une atmosphère ayant une température se situant dans la plage de 1200 à 2000°C, bornes incluses, et une pression de 140MPa ou plus, puis le refroidissement du verre de silice, le mode opératoire de refroidissements du verre de silice de 1200 à 900°C étant effectué dans une atmosphère ayant une pression de 140 MPa ou plus.
(JA)
 光通信用ファイバの材料に好適な低散乱シリカガラスを提供する。 仮想温度が1000℃以上であって、陽電子消滅寿命法によって観測される空隙半径が0.240nm以下であるシリカガラス。熱処理されるシリカガラスを1200℃以上2000℃以下の温度、かつ30MPa以上の圧力の雰囲気下に保持し、ついで冷却する際に、1200℃から900℃までの温度範囲を、40℃/分以上の平均降温速度で冷却するシリカガラスの熱処理方法。熱処理されるシリカガラスを1200℃以上2000℃以下の温度、かつ140MPa以上の圧力の雰囲気下に保持し、ついで冷却する際に、1200℃から900℃までの温度範囲を、140MPa以上の圧力の雰囲気下に冷却するシリカガラスの熱処理方法。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報