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1. WO2015022963 - Fe-Co系合金スパッタリングターゲット材および軟磁性薄膜層とそれを使用した垂直磁気記録媒体

公開番号 WO/2015/022963
公開日 19.02.2015
国際出願番号 PCT/JP2014/071305
国際出願日 12.08.2014
IPC
C23C 14/34 2006.01
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
14被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22被覆の方法に特徴のあるもの
34スパッタリング
C22C 19/07 2006.01
C化学;冶金
22冶金;鉄または非鉄合金;合金の処理または非鉄金属の処理
C合金
19ニッケルまたはコバルトを基とする合金
07コバルトを基とする合金
C22C 38/00 2006.01
C化学;冶金
22冶金;鉄または非鉄合金;合金の処理または非鉄金属の処理
C合金
38鉄合金,例.合金鋼
G11B 5/667 2006.01
G物理学
11情報記憶
B記録担体と変換器との間の相対運動に基づいた情報記録
5記録担体の磁化または減磁による記録;磁気的手段による再生;そのための記録担体
62材料の選択によって特徴づけられる記録担体
64結合材料をもたない磁性材料のみからなるもの
66記録層が多層よりなるもの
667軟磁性層を含むもの
G11B 5/851 2006.01
G物理学
11情報記憶
B記録担体と変換器との間の相対運動に基づいた情報記録
5記録担体の磁化または減磁による記録;磁気的手段による再生;そのための記録担体
84記録担体の製造に特に適合する方法または装置
851スパッタリングにより磁性層を支持体に形成するもの
C22C 1/04 2006.01
C化学;冶金
22冶金;鉄または非鉄合金;合金の処理または非鉄金属の処理
C合金
1非鉄合金の製造
04粉末冶金によるもの
CPC
C22C 1/0433
CCHEMISTRY; METALLURGY
22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
CALLOYS
1Making alloys
04by powder metallurgy
0433Nickel- or cobalt-based alloys
C22C 1/0491
CCHEMISTRY; METALLURGY
22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
CALLOYS
1Making alloys
04by powder metallurgy
0491comprising intermetallic compounds
C22C 19/07
CCHEMISTRY; METALLURGY
22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
CALLOYS
19Alloys based on nickel or cobalt
07based on cobalt
C22C 2200/02
CCHEMISTRY; METALLURGY
22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
CALLOYS
2200Crystalline structure
02Amorphous
C22C 30/00
CCHEMISTRY; METALLURGY
22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
CALLOYS
30Alloys containing less than 50% by weight of each constituent
C22C 33/0285
CCHEMISTRY; METALLURGY
22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
CALLOYS
33Making ferrous alloys
02by powder metallurgy
0257characterised by the range of the alloying elements
0278with at least one alloying element having a minimum content above 5%
0285with Cr, Co, or Ni having a minimum content higher than 5%
出願人
  • 山陽特殊製鋼株式会社 SANYO SPECIAL STEEL CO., LTD. [JP/JP]; 兵庫県姫路市飾磨区中島字一文字3007番地 3007, Aza-Ichimonji, Nakashima, Shikama-ku, Himeji-shi, Hyogo 6728677, JP
発明者
  • 長谷川 浩之 HASEGAWA Hiroyuki; JP
  • 澤田 俊之 SAWADA Toshiyuki; JP
  • 松原 慶明 MATSUBARA Noriaki; JP
代理人
  • 勝沼 宏仁 KATSUNUMA Hirohito; JP
優先権情報
2013-16878715.08.2013JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) Fe-Co-BASED ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL, SOFT MAGNETIC THIN FILM LAYER, AND VERTICAL MAGNETIC RECORDING MEDIUM PRODUCED USING SAID SOFT MAGNETIC THIN FILM LAYER
(FR) MATÉRIAU DE CIBLE DE PULVÉRISATION CATHODIQUE EN ALLIAGE Fe-Co, ET COUCHE DOUCE DE FILM MAGNÉTIQUE MINCE AINSI QUE SUPPORT D'ENREGISTREMENT MAGNÉTIQUE PERPENDICULAIRE METTANT EN ŒUVRE CELLE-CI
(JA) Fe-Co系合金スパッタリングターゲット材および軟磁性薄膜層とそれを使用した垂直磁気記録媒体
要約
(EN)
A sputtering target material comprising a Fe-Co-based alloy which comprises at least one M element selected from Nb, Ta, Mo and W, Fe and/or Co and a remainder made up by unavoidable impurities, and which satisfies formula (1): (FeX-Co100-X)100-YMY [wherein the atomic ratios are as follows: 0 ≤ X ≤ 100 and 4 ≤ Y ≤ 28], wherein the microstructure of the sputtering target material has phases each mainly composed of Fe and Co and an intermetallic compound phase composed of Fe and/or Co and a M element, the phases each mainly composed of Fe and Co are surrounded, split and isolated by growing the intermetallic compound phase composed of Fe and/or Co and the M element in a net-like shape, and the number of the phases each mainly composed of Fe and Co which are isolated by the intermetallic compound phase is 300 or more per 10000 μm2 in the sputtering target material.
(FR)
L'invention concerne un matériau de cible de pulvérisation cathodique qui est constitué d'au moins un élément M choisi parmi Nb, Ta, Mo et W, et pour le reste d'une ou deux sortes de Fe et Co ainsi que des impuretés inévitables. Plus précisément, le matériau de cible de pulvérisation cathodique est constitué d'un alliage Fe-Co qui satisfait la formule (1) (FeX-Co100-X)100-YMY…(1) (dans la formule, le rapport atomique est tel que 0≦X≦100 et 4≦Y≦28). La microstructure de la cible de du matériau de pulvérisation cathodique possède une phase principalement formée de Fe et Co, une phase de composé intermétallique constituée d'une ou deux sortes de Fe et Co et d'un élément M. Dans ledit matériau de cible de pulvérisation cathodique, le nombre de phases principalement formées de Fe et Co isolées par une phase de composé intermétallique, qui sont entourées, séparées et isolées par croissance en réseau de la phase de composé intermétallique constituée d'une ou deux sortes de Fe et Co et d'un élément M, est supérieur ou égal à 300 pour 10000µm2.
(JA)
Nb、Ta、MoおよびWから選択される少なくとも1種のM元素、ならびにFeおよびCoの1種または2種および不可避的不純物である残部からなり、かつ、下記式(1):(FeX -Co100-X100-YY …(1)[式中、原子比が0≦X≦100および4≦Y≦28である。]を満たすFe-Co系合金からなるスパッタリングターゲット材であって、スパッタリングターゲット材のミクロ組織が、FeとCoを主体とする相と、FeとCoの1種または2種とM元素からなる金属間化合物相とを有し、FeとCoを主体とする相をFeとCoの1種または2種とM元素とからなる金属間化合物相をネット状に成長させることで包囲、分断させ孤立させ、金属間化合物相によって孤立しているFeとCoを主体とする相の数が、前記スパッタリングターゲット材中に、10000μm2 当り300個以上存在する、スパッタリングターゲット材である。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報