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1. WO2015022851 - 光干渉法を用いた計測装置及び光干渉法を用いた計測方法

公開番号 WO/2015/022851
公開日 19.02.2015
国際出願番号 PCT/JP2014/069690
国際出願日 25.07.2014
IPC
G01B 11/00 2006.01
G物理学
01測定;試験
B長さ,厚さまたは同種の直線寸法の測定;角度の測定;面積の測定;表面または輪郭の不規則性の測定
11光学的手段の使用によって特徴づけられた測定装置
G01B 9/02 2006.01
G物理学
01測定;試験
B長さ,厚さまたは同種の直線寸法の測定;角度の測定;面積の測定;表面または輪郭の不規則性の測定
9このサブグループに記述され,かつ光学的測定手段の使用によって特徴づけられた計器
02干渉計
G01B 11/22 2006.01
G物理学
01測定;試験
B長さ,厚さまたは同種の直線寸法の測定;角度の測定;面積の測定;表面または輪郭の不規則性の測定
11光学的手段の使用によって特徴づけられた測定装置
22深さ測定用
CPC
G01B 11/026
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
11Measuring arrangements characterised by the use of optical means
02for measuring length, width or thickness
026by measuring distance between sensor and object
G01B 11/14
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
11Measuring arrangements characterised by the use of optical means
14for measuring distance or clearance between spaced objects or spaced apertures
G01B 11/22
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
11Measuring arrangements characterised by the use of optical means
22for measuring depth
G01B 11/303
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
11Measuring arrangements characterised by the use of optical means
30for measuring roughness or irregularity of surfaces
303using photoelectric detection means
G01B 2210/56
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
2210Aspects not specifically covered by any group under G01B, e.g. of wheel alignment, caliper-like sensors
56Measuring geometric parameters of semiconductor structures, e.g. profile, critical dimensions or trench depth
G01B 9/02
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
9Instruments as specified in the subgroups and characterised by the use of optical measuring means
02Interferometers ; for determining dimensional properties of, or relations between, measurement objects
出願人
  • 富士通株式会社 FUJITSU LIMITED [JP/JP]; 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番1号 1-1, Kamikodanaka 4-chome, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2118588, JP
発明者
  • 中村誠 NAKAMURA Makoto; JP
代理人
  • 土井健二 DOI Kenji; JP
優先権情報
2013-16892115.08.2013JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) MEASUREMENT DEVICE USING OPTICAL INTERFEROMETRY AND MEASUREMENT METHOD USING OPTICAL INTERFEROMETRY
(FR) DISPOSITIF DE MESURE FAISANT APPEL À L'INTERFÉROMÉTRIE OPTIQUE ET PROCÉDÉ DE MESURE FAISANT APPEL À L'INTERFÉROMÉTRIE OPTIQUE
(JA) 光干渉法を用いた計測装置及び光干渉法を用いた計測方法
要約
(EN)
Provided are a measurement device using optical interferometry and a measurement method using optical interferometry that accurately measure the depth of a recess having a high aspect ratio. The measurement device is provided with a sensor for measuring distance using optical interferometry, an optical microscope having an optical axis in a fixed relationship with the optical axis of the sensor, a sample stage on which a sample to be measured is placed, a means for maintaining a fixed distance between a sensor head end of the sensor and a surface of the sample during measurement, and a tilt adjustment means for tilting the surface of the sample or the optical axis of the sensor so as to maximize the interference intensity of the sensor light reflected from the surface of the sample or the sensor light reflected from the surface of the sample and the sensor head end.
(FR)
La présente invention concerne un dispositif de mesure faisant appel à l'interférométrie optique et un procédé de mesure faisant appel à l'interférométrie optique qui mesurent avec précision la profondeur d'un creux possédant un rapport de forme élevé. Le dispositif de mesure comprend un capteur destiné à mesurer une distance en faisant appel à l'interférométrie optique, un microscope optique possédant un axe optique dans une relation fixe par rapport à l'axe optique du capteur, une platine à échantillon sur laquelle est placé un échantillon à mesurer, un moyen permettant de maintenir une distance fixe entre une tête de capteur du capteur et une surface de l'échantillon durant la mesure, et un moyen d'ajustement de l'inclinaison destiné à incliner la surface de l'échantillon ou l'axe optique du capteur de sorte à maximiser l'intensité de l'interférence de la lumière du capteur réfléchie par la surface de l'échantillon ou la lumière du capteur réfléchie par la surface de l'échantillon et l'extrémité de la tête du capteur.
(JA)
 光干渉法を用いた計測装置及び光干渉法を用いた計測方法に関し、高アスペクト比の凹部の深さを精度良く計測する。光干渉法により距離を計測するセンサと、光軸が前記センサの光軸と一定の関係にある光学顕微鏡と、測定対象となる試料を載置する試料ステージと、計測時において前記センサのセンサヘッド端と前記試料の表面の距離を一定に保つ手段と、前記試料の表面からのセンサ光の反射光または前記試料の表面と前記センサヘッド端からの前記センサ光の反射光の干渉強度が最も大きくなるように前記試料の表面または前記センサの光軸の一方を傾斜させる傾斜調整手段とを設ける。
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