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1. WO2015020011 - ガスバリア性フィルム

公開番号 WO/2015/020011
公開日 12.02.2015
国際出願番号 PCT/JP2014/070516
国際出願日 04.08.2014
IPC
B32B 9/00 2006.01
B処理操作;運輸
32積層体
B積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
9本質的にグループB32B11/00~B32B29/00に包含されない特殊な物質からなる積層体
B05D 1/34 2006.01
B処理操作;運輸
05霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般
D液体または他の流動性材料を表面に適用する方法一般
1液体または他の流動性材料を適用する方法
34異なる液体または他の流動性材料を同時に適用するもの
B05D 3/06 2006.01
B処理操作;運輸
05霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般
D液体または他の流動性材料を表面に適用する方法一般
3液体または他の流動性材料を適用する表面の前処理;適用されたコーティングの後処理,例.液体または他の流動性材料を続いて適用することに先だってなされるすでに適用されたコーティングの中間処理
06放射線にさらすことによるもの
B05D 7/24 2006.01
B処理操作;運輸
05霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般
D液体または他の流動性材料を表面に適用する方法一般
7液体または他の流動性材料を特定の表面に適用するかまたは特定の液体または他の流動性材料を適用するのに特に適した,フロック加工以外の,方法
24特定の液体または他の流動性材料を適用するためのもの
H01L 51/50 2006.01
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
51能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる固体装置;このような装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
50光放出に特に適用されるもの,例.有機発光ダイオード(OLED)または高分子発光ダイオード(PLED)
H05B 33/04 2006.01
H電気
05他に分類されない電気技術
B電気加熱;他に分類されない電気照明
33エレクトロルミネッセンス光源
02細部
04封止装置
CPC
B05D 3/065
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
DPROCESSES FOR APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
3Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
06by exposure to radiation
061using U.V.
065After-treatment
B05D 7/58
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
DPROCESSES FOR APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
7Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials
50Multilayers
56Three layers or more
58No clear coat specified
C08G 77/62
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
77Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
60in which all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
62Nitrogen atoms
C08J 2367/02
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G
2367Characterised by the use of polyesters obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain
02Polyesters derived from dicarboxylic acids and dihydroxy compounds;
C08J 2483/00
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G
2483Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Derivatives of such polymers
C08J 2483/16
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G
2483Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Derivatives of such polymers
16in which all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
出願人
  • コニカミノルタ株式会社 KONICA MINOLTA, INC. [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内二丁目7番2号 2-7-2 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1007015, JP
発明者
  • 後藤 良孝 GOTO, Yoshitaka; JP
代理人
  • 八田国際特許業務法人 HATTA & ASSOCIATES; 東京都千代田区二番町11番地9 ダイアパレス二番町 Dia Palace Nibancho, 11-9, Nibancho, Chiyoda-ku, Tokyo 1020084, JP
優先権情報
2013-16420907.08.2013JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) GAS BARRIER FILM
(FR) FILM BARRIÈRE CONTRE LES GAZ
(JA) ガスバリア性フィルム
要約
(EN)
A purpose of the present invention is to provide a gas barrier film that is reformed nearly uniformly in the film-thickness direction, and that has exceptional inter-layer adhesive force and bending tolerance even after being preserved in high-temperature, high-humidity conditions. This gas barrier film has a plurality of gas barrier layers obtained by simultaneously applying layered coatings of a coating solution containing a polysilazane compound to a base material, drying the coatings to obtain a plurality of coating film layers, and then irradiating the coating film layer farthest from the base material with vacuum UV light to perform a reforming treatment, wherein at least one of the gas barrier layers contains at least one element (excluding silicon and carbon) selected from a group comprising group 2, group 13, and group 14 elements of the long-form periodic table.
(FR)
Un objet de la présente invention est de produire un film barrière contre les gaz qui est reformé de façon pratiquement uniforme dans la direction de l’épaisseur du film, et qui a une force adhésive inter-couche et une tolérance à la flexion exceptionnelles, même après avoir été conservé dans des conditions de température élevée et d’humidité élevée. Ce film de barrière contre les gaz comprend une pluralité de couche de barrière contre les gaz obtenus par application simultanée de revêtements stratifiés d’une solution de revêtement contenant un composé polysilazane sur un matériau de base, séchage des revêtements pour obtenir une pluralité de couches de films de revêtement, et ensuite irradiation de la couche de films de revêtement la plus éloignée du matériau de base avec une lumière UV sous vide pour effectuer un traitement de reformage, au moins une des couches de barrière contre les gaz contenant au moins un élément (en excluant le silicium de carbone, choisi dans un groupe comprenant des éléments du groupe 2, du groupe 13 et du groupe 14 de la forme longue de la table périodique.
(JA)
本発明は、膜厚方向にほぼ均一に改質され、高温高湿条件下で保存した後でも、層間密着力や屈曲耐性に優れるガスバリア性フィルムを提供することを目的とする。本発明のガスバリア性フィルムは、基材上に、ポリシラザン化合物を含有する塗布液を同時重層塗布し乾燥して複数の塗膜層を得た後、前記基材から最も離れた前記塗膜層の側から真空紫外線を照射し改質処理を行うことにより得られる、複数のガスバリア層を有するガスバリア性フィルムであって、前記ガスバリア層の少なくとも1層は、長周期型周期表の第2族、第13族、および第14族の元素からなる群より選択される少なくとも1種の元素(ただし、ケイ素および炭素を除く)を含有する。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報