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1. WO2015019866 - 蒸着装置、及び、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法

公開番号 WO/2015/019866
公開日 12.02.2015
国際出願番号 PCT/JP2014/069657
国際出願日 25.07.2014
IPC
C23C 14/24 2006.01
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
14被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22被覆の方法に特徴のあるもの
24真空蒸着
H01L 51/50 2006.01
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
51能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる固体装置;このような装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
50光放出に特に適用されるもの,例.有機発光ダイオード(OLED)または高分子発光ダイオード(PLED)
H05B 33/10 2006.01
H電気
05他に分類されない電気技術
B電気加熱;他に分類されない電気照明
33エレクトロルミネッセンス光源
10エレクトロルミネッセンス光源の製造に特に適用する装置または方法
CPC
C23C 14/042
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
04Coating on selected surface areas, e.g. using masks
042using masks
C23C 14/24
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
22characterised by the process of coating
24Vacuum evaporation
H01L 27/3211
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
27Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
28including components using organic materials as the active part, or using a combination of organic materials with other materials as the active part
32with components specially adapted for light emission, e.g. flat-panel displays using organic light-emitting diodes [OLED]
3206Multi-colour light emission
3211using RGB sub-pixels
H01L 51/0011
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
51Solid state devices using organic materials as the active part, or using a combination of organic materials with other materials as the active part; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of such devices, or of parts thereof
0001Processes specially adapted for the manufacture or treatment of devices or of parts thereof
0002Deposition of organic semiconductor materials on a substrate
0008using physical deposition, e.g. sublimation, sputtering
0011selective deposition, e.g. using a mask
H01L 51/5012
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
51Solid state devices using organic materials as the active part, or using a combination of organic materials with other materials as the active part; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of such devices, or of parts thereof
50specially adapted for light emission, e.g. organic light emitting diodes [OLED] or polymer light emitting devices [PLED]
5012Electroluminescent [EL] layer
H01L 51/56
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
51Solid state devices using organic materials as the active part, or using a combination of organic materials with other materials as the active part; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of such devices, or of parts thereof
50specially adapted for light emission, e.g. organic light emitting diodes [OLED] or polymer light emitting devices [PLED]
56Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of such devices or of parts thereof
出願人
  • シャープ株式会社 SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka 5458522, JP
発明者
  • 川戸 伸一 KAWATO Shinichi; null
  • 井上 智 INOUE Satoshi; null
  • 越智 貴志 OCHI Takashi; null
  • 小林 勇毅 KOBAYASHI Yuhki; null
  • 菊池 克浩 KIKUCHI Katsuhiro; null
  • 松本 栄一 MATSUMOTO Eiichi; JP
  • 市原 正浩 ICHIHARA Masahiro; JP
代理人
  • 特許業務法人 安富国際特許事務所 YASUTOMI & ASSOCIATES; 大阪府大阪市淀川区宮原3丁目5番36号 5-36, Miyahara 3-chome, Yodogawa-ku, Osaka-shi, Osaka 5320003, JP
優先権情報
2013-16438907.08.2013JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) VAPOR DEPOSITION DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE ELEMENT
(FR) DISPOSITIF DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR ET PROCÉDÉ PERMETTANT DE FABRIQUER UN ÉLÉMENT À ÉLECTROLUMINESCENCE ORGANIQUE
(JA) 蒸着装置、及び、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法
要約
(EN)
The present invention provides a vapor deposition device capable of preventing defective films form being formed due to scattering of a vapor flow, and a method for manufacturing an organic electroluminescence element on which a thin-film pattern is formed using the vapor deposition device. The present invention is a vapor deposition device provided with: a vapor deposition source having a nozzle for emitting vapor particles; an integrated limiting plate having a first limiting plate that has an opening forward of the nozzle, and a plurality of second limiting plates disposed in the opening of the first limiting plate; and a mask having a plurality of slits. Further, the present invention is a method for manufacturing an electroluminescence element including a vapor deposition step for forming a thin-film pattern using said vapor deposition device.
(FR)
La présente invention porte sur un dispositif de dépôt en phase vapeur qui peut empêcher la formation de films défectueux à cause de la dispersion d'un flux de vapeur, et sur un procédé permettant de fabriquer un élément à électroluminescence organique sur lequel un motif à film mince est formé à l'aide du dispositif de dépôt en phase vapeur. Le présente invention concerne un dispositif de dépôt en phase vapeur qui comprend : une source de dépôt en phase vapeur qui comporte une buse destinée à émettre des particules de vapeur ; une plaque de limitation intégrée qui comporte une première plaque de limitation qui présente une ouverture réalisée vers l'avant de la buse, et une pluralité de secondes plaques de limitation disposées dans l'ouverture de la première plaque de limitation ; et un masque qui comporte une pluralité de fentes. En outre, la présente invention concerne un procédé permettant de fabriquer un élément à électroluminescence, ledit procédé comprenant une étape de dépôt en phase vapeur destinée à former un motif à film mince à l'aide dudit dispositif de dépôt en phase vapeur.
(JA)
本発明は、蒸着流の散乱に基づく異常成膜の発生を防ぐことができる蒸着装置、及び、該蒸着装置によって薄膜パターンが形成される有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法を提供する。 本発明は、蒸着粒子を射出するノズルを有する蒸着源と、該ノズルの前方に開口部を有する第一制限板、及び、該第一制限板の開口部内に配置された複数の第二制限板を有する一体化制限板と、複数のスリットを有するマスクとを備える蒸着装置、並びに、該蒸着装置を用いて薄膜のパターンを形成する蒸着工程を含む有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
他の公開
KR1020167005772
国際事務局に記録されている最新の書誌情報