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1. WO2015019491 - 荷電粒子線発生装置、荷電粒子線装置、試料加工方法および試料観察方法

公開番号 WO/2015/019491
公開日 12.02.2015
国際出願番号 PCT/JP2013/071663
国際出願日 09.08.2013
IPC
H01J 37/06 2006.01
H電気
01基本的電気素子
J電子管または放電ランプ
37放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
02細部
04電極装置および放電を発生しまたは制御するための関連部品,例.電子光学装置,イオン光学装置
06電子源;電子銃
CPC
H01J 2237/06341
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
06Sources
063Electron sources
06325Cold-cathode sources
06341Field emission
H01J 2237/06383
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
06Sources
063Electron sources
06383Spin polarised electron sources
H01J 2237/065
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
06Sources
065Source emittance characteristics
H01J 2237/083
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
06Sources
083Beam forming
H01J 2237/2614
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
26Electron or ion microscopes
2614Holography or phase contrast, phase related imaging in general, e.g. phase plates
H01J 37/06
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
02Details
04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
06Electron sources; Electron guns
出願人
  • 株式会社日立製作所 HITACHI, LTD. [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内一丁目6番6号 6-6, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008280, JP
発明者
  • 原田 研 HARADA, Ken; JP
  • 孝橋 照生 KOHASHI, Teruo; JP
代理人
  • 筒井 大和 TSUTSUI, Yamato; 東京都新宿区新宿2丁目3番10号 新宿御苑ビル3階 筒井国際特許事務所 Tsutsui & Associates, 3F, Shinjuku Gyoen Bldg., 3-10, Shinjuku 2-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022, JP
優先権情報
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) CHARGED PARTICLE BEAM GENERATING DEVICE, CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE, SAMPLE PROCESSING METHOD, AND SAMPLE OBSERVATION METHOD
(FR) DISPOSITIF DE GÉNÉRATION DE FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES, DISPOSITIF DE FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES, PROCÉDÉ DE TRAITEMENT D'ÉCHANTILLON ET PROCÉDÉ D'OBSERVATION D'ÉCHANTILLON
(JA) 荷電粒子線発生装置、荷電粒子線装置、試料加工方法および試料観察方法
要約
(EN)
The purpose of the present invention is to generate a charged particle helix wave while maintaining intensity of a charged particle beam generated by a charged particle source, and easily control the helicity as well as the positivity and negativity (orientation of the winding of the helix) of the charged particle helix wave. The axis of a dipole magnetic field and the optical axis (2) of the charged particle beam device are made parallel, and a charged particle beam source (11) is disposed on the axis of the dipole or on a line extending from the axis such that the magnetic flux lines (81) emanating from one end of the dipole and a charged particle beam (27) interact. Furthermore, the amount of magnetic flux generated by the one end of the dipole and the polarity thereof are controlled such that the trajectories of the charged particle beam (27) discharged by the charged particle beam source (11) and the magnetic flux generated by the one end of the dipole satisfy a condition suitable for generating a helix wave (21).
(FR)
L'objet de la présente invention est de générer une onde hélicoïdale de particules chargées tout en maintenant l'intensité d'un faisceau de particules chargées généré par une source de particules chargées, et de commander facilement l'hélicité de même que la positivité et la négativité (orientation de l'enroulement de l'hélice) de l'onde hélicoïdale de particules chargées. L'axe d'un champ magnétique dipolaire et l'axe optique (2) du dispositif de faisceau de particules chargées sont rendus parallèles, et une source de faisceau de particules chargées (11) est disposée sur l'axe du dipôle ou sur une ligne s'étendant à partir de l'axe de sorte que les lignes de flux magnétique (81) émanant d'une extrémité du dipôle et qu'un faisceau de particules chargées (27) interagissent. En outre, la quantité de flux magnétique généré par ladite extrémité du dipôle et sa polarité sont commandées de sorte que les trajectoires du faisceau de particules chargées (27) déchargé par la source de faisceau de particules chargées (11) et du flux magnétique généré par ladite extrémité du dipôle satisfassent à une condition appropriée à la génération d'une onde hélicoïdale (21).
(JA)
 荷電粒子源から発生する荷電粒子線の強度を維持しつつ、荷電粒子らせん波を生成する。また、荷電粒子らせん波のらせん度や正負(らせんの巻きの向き)などを容易に制御する。 ダイポールの磁場の軸と荷電粒子線装置の光軸(2)とを平行とし、ダイポールの片端から発した磁束線(81)と荷電粒子線(27)とが相互作用するように、ダイポールの軸または軸の延長線上に荷電粒子源(11)を配置する。そして、荷電粒子源(11)から放出される荷電粒子線(27)の各軌道とダイポールの片端から発する磁束とが、らせん波(21)を生成するのに適正な条件を満たすように、ダイポールの片端から発する磁束量とその極性を制御する。
他の公開
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