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1. WO2015016039 - イオンミリング装置、及びイオンミリング装置を用いた加工方法

公開番号 WO/2015/016039
公開日 05.02.2015
国際出願番号 PCT/JP2014/068527
国際出願日 11.07.2014
予備審査請求日 30.01.2015
IPC
H01J 37/16 2006.01
H電気
01基本的電気素子
J電子管または放電ランプ
37放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
02細部
16うつわ;容器
H01J 37/18 2006.01
H電気
01基本的電気素子
J電子管または放電ランプ
37放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
02細部
18真空封止
H01J 37/20 2006.01
H電気
01基本的電気素子
J電子管または放電ランプ
37放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
02細部
20物体または材料を支持しまたは位置づける手段;支持体に関連した隔膜壁またはレンズを調節する手段
H01J 37/30 2006.01
H電気
01基本的電気素子
J電子管または放電ランプ
37放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
30物体の局所的な処理のための電子ビームまたはイオンビーム管
CPC
H01J 2237/006
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
006Details of gas supplies, e.g. in an ion source, to a beam line, to a specimen or to a workpiece,
H01J 2237/06
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
06Sources
H01J 2237/08
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
06Sources
08Ion sources
H01J 2237/182
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
18Vacuum control means
182Obtaining or maintaining desired pressure
H01J 2237/1825
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
18Vacuum control means
182Obtaining or maintaining desired pressure
1825Evacuating means
H01J 2237/184
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
18Vacuum control means
184Vacuum locks
出願人
  • 株式会社 日立ハイテクノロジーズ HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西新橋一丁目24番14号 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717, JP
発明者
  • 上野 敦史 KAMINO Atsushi; JP
  • 高須 久幸 TAKASU Hisayuki; JP
  • 武藤 宏史 MUTO Hirobumi; JP
代理人
  • 井上 学 INOUE Manabu; JP
優先権情報
2013-15625629.07.2013JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) ION MILLING DEVICE AND PROCESSING METHOD USING THE ION MILLING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE GRAVURE IONIQUE ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT FAISANT APPEL AU DISPOSITIF DE GRAVURE IONIQUE
(JA) イオンミリング装置、及びイオンミリング装置を用いた加工方法
要約
(EN)
This ion milling device is provided with a vacuum chamber (105), an exhaust device (101) for evacuating the interior of the vacuum chamber, a sample stage (103) for supporting a sample (102) to be irradiated inside the vacuum chamber, a heater (107) for heating the interior of the vacuum chamber, a gas source (106) for introducing into the vacuum chamber a gas serving as a heating medium, and a controller (110) for controlling the gas source, the controller controlling the gas source so that the vacuum chamber internal pressure is in a predetermined state during heating by the heater. This enables the control in a short time of the temperature for suppressing condensation, or the like, occurring at atmospheric release after cooling and ion milling a sample.
(FR)
La présente invention concerne un dispositif de gravure ionique doté d'une chambre à vide (105), d'un dispositif d'échappement (101) destiné à évacuer l'intérieur de la chambre à vide, d'un étage d'échantillon (103) destiné à supporter un échantillon (102) devant être exposé à un rayonnement dans la chambre à vide, d'un dispositif de chauffage (107) destiné à chauffer l'intérieur de la chambre à vide, d'une source de gaz (106) destinée à introduire dans la chambre à vide un gaz servant de moyen de chauffage, et d'un organe de commande (110) destiné à commander la source de gaz, l'organe de commande commandant la source de gaz pour que la pression intérieure de la chambre à vide soit dans un état prédéfini pendant le chauffage effectué par le dispositif de chauffage. Ceci permet de commander rapidement la température destinée à supprimer la condensation, ou similaire, se produisant au niveau du rejet atmosphérique après le refroidissement et la gravure ionique d'un échantillon.
(JA)
本発明のイオンミリング装置は、真空室(105)と、当該真空室内の真空排気を行う排気装置(101)と、前記真空室内にてイオンビームが照射される試料(102)を支持する試料台(103)と、前記真空室内を加熱する加熱装置(107)と、前記真空室内に熱媒体としてのガスを導入するガス源(106)と、当該ガス源を制御する制御装置(110)とを備え、当該制御装置は、前記加熱装置による加熱時に、前記真空室内の圧力が所定の状態となるように、前記ガス源を制御する。これにより、試料を冷却してイオンミリングを行った後に大気開放する際に生じる結露等を抑制するための温度制御を、短時間で行うことが可能となる。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報