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1. WO2015015945 - 欠陥候補特定装置、欠陥候補特定方法、欠陥判定装置、欠陥検査装置、欠陥候補特定プログラム及び記録媒体

公開番号 WO/2015/015945
公開日 05.02.2015
国際出願番号 PCT/JP2014/066438
国際出願日 20.06.2014
IPC
G01N 21/88 2006.01
G物理学
01測定;試験
N材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
21光学的手段,すなわち,赤外線,可視光線または紫外線を使用することによる材料の調査または分析
84特殊な応用に特に適合したシステム
88きず,欠陥,または汚れの存在の調査
G01B 11/30 2006.01
G物理学
01測定;試験
B長さ,厚さまたは同種の直線寸法の測定;角度の測定;面積の測定;表面または輪郭の不規則性の測定
11光学的手段の使用によって特徴づけられた測定装置
30表面の粗さまたは不規則性測定用
CPC
G01N 21/8851
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
21Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using infra-red, visible or ultra-violet light
84Systems specially adapted for particular applications
88Investigating the presence of flaws or contamination
8851Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
G06T 2207/30148
GPHYSICS
06COMPUTING; CALCULATING; COUNTING
TIMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
2207Indexing scheme for image analysis or image enhancement
30Subject of image; Context of image processing
30108Industrial image inspection
30148Semiconductor; IC; Wafer
G06T 7/0004
GPHYSICS
06COMPUTING; CALCULATING; COUNTING
TIMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
7Image analysis
0002Inspection of images, e.g. flaw detection
0004Industrial image inspection
出願人
  • シャープ株式会社 SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka 5458522, JP
発明者
  • 中村 篤 NAKAMURA, Atsushi; null
  • 柳瀬 正和 YANASE, Masakazu; null
  • 戸屋 正雄 TOYA, Masao; null
代理人
  • 特許業務法人HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK; 大阪府大阪市北区天神橋2丁目北2番6号 大和南森町ビル Daiwa Minamimorimachi Building, 2-6, Tenjinbashi 2-chome Kita, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300041, JP
優先権情報
2013-15764030.07.2013JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) DEFECT CANDIDATE SPECIFICATION DEVICE, DEFECT CANDIDATE SPECIFICATION METHOD, DEFECT DETERMINATION DEVICE, DEFECT INSPECTION DEVICE, DEFECT CANDIDATE SPECIFICATION PROGRAM, AND RECORDING MEDIUM
(FR) DISPOSITIF D'IDENTIFICATION DE DÉFAUT POSSIBLE, PROCÉDÉ D'IDENTIFICATION DE DÉFAUT POSSIBLE, DISPOSITIF DE DÉTERMINATION DE DÉFAUT, DISPOSITIF D'INSPECTION DE DÉFAUT, PROGRAMME D'IDENTIFICATION DE DÉFAUT POSSIBLE ET SUPPORT D'ENREGISTREMENT
(JA) 欠陥候補特定装置、欠陥候補特定方法、欠陥判定装置、欠陥検査装置、欠陥候補特定プログラム及び記録媒体
要約
(EN)
A defect candidate specification device according to the present invention is provided with a defect candidate specification unit (21) for specifying defect candidates in image data on the basis of defect candidate information that is updated with second closed areas, which are obtained through the execution of a second binarization process based on a second threshold that is different from a first threshold, as new defect candidates if the number of second closed areas is greater than the number of first closed areas, which are obtained through the execution of a first binarization process using the first threshold.
(FR)
L'invention concerne un dispositif d'identification de défaut possible qui comporte une unité d'identification de défaut possible (21) pour identifier les défaut possibles dans des données image sur la base d'une information de défaut possible qui est mise à jour avec des secondes zones fermées qui sont obtenues par l'exécution d'une seconde processus de conversion binaire basé sur un second seuil qui est différent d'un premier seuil, en tant que nouveaux défauts possibles si le nombre de secondes zones fermées est supérieur que le nombre de premières zones fermées qui sont obtenues par l'exécution d'une premier processus de conversion binaire utilisant le premier seuil
(JA)
 本発明の欠陥候補特定装置は、第一の閾値を用いた第一の二値化処理を実行して得られた第一の閉領域の数よりも、第一の閾値と異なる第二の閾値に基づく第二の二値化処理を実行して得られた第二の閉領域の数のほうが多い場合に、当該第二の閉領域を新たな欠陥候補として更新した欠陥候補情報から、画像データにおける欠陥候補を特定する欠陥候補特定部(21)を備える。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報