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1. WO2015015749 - 光源および露光装置

公開番号 WO/2015/015749
公開日 05.02.2015
国際出願番号 PCT/JP2014/003819
国際出願日 18.07.2014
IPC
G03F 7/20 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20露光;そのための装置
G02B 19/00 2006.01
G物理学
02光学
B光学要素,光学系,または光学装置
19コンデンサー
H01L 21/027 2006.01
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02半導体装置またはその部品の製造または処理
027その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループH01L21/18またはH01L21/34に分類されないもの
CPC
G02B 27/0927
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
27Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
0927Systems for changing the beam intensity distribution, e.g. Gaussian to top-hat
G03F 7/70075
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70058Mask illumination systems
70075Homogenization of illumination intensity in the mask plane, by using an integrator, e.g. fly's eye lenses, facet mirrors, glass rods, by using a diffusive optical element or by beam deflection
出願人
  • 株式会社ニコンエンジニアリング NIKON ENGINEERING CO.,LTD. [JP/JP]; 神奈川県横浜市神奈川区鶴屋町3丁目30番地4 30-4,Tsuruya-cho 3-chome,Kanagawa-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2210835, JP
発明者
  • 小貫 哲治 ONUKI, Tetsuji; JP
  • 廣瀬 秀男 HIROSE, Hideo; JP
  • 田村 雄一 TAMURA, Yuichi; JP
  • 丸岡 幸夫 MARUOKA, Yukio; JP
  • 秦 一成 HADA, Kazunari; JP
代理人
  • 古谷 史旺 FURUYA, Fumio; JP
優先権情報
2013-16162502.08.2013JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) LIGHT SOURCE AND EXPOSURE APPARATUS
(FR) APPAREIL DE SOURCE ET D'EXPOSITION DE LUMIÈRE
(JA) 光源および露光装置
要約
(EN)
According to an example of the present invention, a light source (10) is provided with a light emitting element (11), and a homogenizer (13) that is provided corresponding to the light emitting element (11). Light emitted from the light emitting element (11) is converted into converted light having more uniform intensity distribution by means of the homogenizer (13), and is outputted from the light source (10).
(FR)
L'invention concerne, selon un exemple, une source de lumière (10) dotée d'un élément électroluminescent (11), et d'un homogénéisateur (13) qui est prévu en correspondance avec l'élément électroluminescent (11). La lumière émise par l'élément électroluminescent (11) est convertie en lumière convertie ayant une distribution d'intensité plus uniforme au moyen de l'homogénéisateur (13), et est produite par la source de lumière (10).
(JA)
 本発明を例示する態様の光源10は、発光素子11と、発光素子11に対応して設けられたホモジナイザ13と、を備える。発光素子11から出射した光は、ホモジナイザ13により均一な強度分布の変換光に変換されて光源10から出力される。
他の公開
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