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1. WO2015015693 - 回折光学素子、回折光学素子の製造方法および回折光学素子の製造方法に用いられる型

公開番号 WO/2015/015693
公開日 05.02.2015
国際出願番号 PCT/JP2014/003187
国際出願日 16.06.2014
IPC
G02B 5/18 2006.01
G物理学
02光学
B光学要素,光学系,または光学装置
5レンズ以外の光学要素
18回折格子
B29C 33/42 2006.01
B処理操作;運輸
29プラスチックの加工;可塑状態の物質の加工一般
Cプラスチックの成形または接合;他に分類されない可塑状態の材料の成形;成形品の後処理,例.補修
33型またはコア;その細部または付属装置
42成形面の形状,例.リブまたは溝,に特徴があるもの
G02B 3/00 2006.01
G物理学
02光学
B光学要素,光学系,または光学装置
3単レンズまたは複合レンズ
G11B 7/135 2012.01
G物理学
11情報記憶
B記録担体と変換器との間の相対運動に基づいた情報記録
7光学的手段による記録または再生,例.光ビームの照射による記録,低パワー光ビームを用いる再生;そのための記録担体
12ヘッド,例.光ビームスポットの形成または光ビームの変調
135光源から記録担体にまたは記録担体から光検出器に光ビームを案内する手段
G11B 7/22 2006.01
G物理学
11情報記憶
B記録担体と変換器との間の相対運動に基づいた情報記録
7光学的手段による記録または再生,例.光ビームの照射による記録,低パワー光ビームを用いる再生;そのための記録担体
12ヘッド,例.光ビームスポットの形成または光ビームの変調
22光学ヘッドを製造する装置または方法,例.組立て方法
B29L 11/00 2006.01
B処理操作;運輸
29プラスチックの加工;可塑状態の物質の加工一般
LサブクラスB29Cに関連する特定物品についてのインデキシング系列
11,,
CPC
B29C 33/42
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
33Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor
42characterised by the shape of the moulding surface, e.g. ribs or grooves
B29L 2011/0016
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
LINDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
2011Optical elements, e.g. lenses, prisms
0016Lenses
G02B 5/18
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
18Diffraction gratings
G02B 5/1852
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
18Diffraction gratings
1847Manufacturing methods
1852using mechanical means, e.g. ruling with diamond tool, moulding
G02B 5/1876
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
18Diffraction gratings
1876Diffractive Fresnel lenses; Zone plates; Kinoforms
出願人
  • パナソニックIPマネジメント株式会社 PANASONIC INTELLECTUAL PROPERTY MANAGEMENT CO., LTD. [JP/JP]; 大阪府大阪市中央区城見2丁目1番61号 1-61, Shiromi 2-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5406207, JP
発明者
  • 岡田 夕佳 OKADA, Yuka; null
  • 松岡 耕一朗 MATSUOKA, Kouichirou; null
代理人
  • 藤井 兼太郎 FUJII, Kentaro; JP
優先権情報
2013-15719729.07.2013JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) DIFFRACTIVE OPTICAL ELEMENT, DIFFRACTIVE OPTICAL ELEMENT MANUFACTURING METHOD, AND MOLDING DIE USED IN DIFFRACTIVE OPTICAL ELEMENT MANUFACTURING METHOD
(FR) ÉLÉMENT OPTIQUE DIFFRACTANT, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'ÉLÉMENT OPTIQUE DIFFRACTANT ET MATRICE DE MOULAGE UTILISÉE DANS UN PROCÉDÉ DE FABRICATION D'ÉLÉMENT OPTIQUE DIFFRACTANT
(JA) 回折光学素子、回折光学素子の製造方法および回折光学素子の製造方法に用いられる型
要約
(EN)
A diffractive optical element (101) has: a base body (102) that includes, on a surface, a first region (105) that is provided with a diffraction grating; and a second region (106) positioned outside of the first region; and an optical adjustment layer (103) that is provided on the surface such that the optical adjustment layer is in contact with the first region (105) and at least a part of the second region (106). At least a part of the optical adjustment layer (103) part in contact with the second region (106) is provided with a thin film part (107) having a smaller film thickness than a maximum film thickness of the optical adjustment layer (103) part in contact with the second region (106).
(FR)
Un élément (101) optique diffractant a : un corps (102) de base qui comprend, sur une surface, une première région (105) qui comporte un réseau de diffraction; et une seconde région (106) positionnée à l'extérieur de la première région; et une couche (103) de réglage optique qui est disposée sur la surface de telle sorte que la couche de réglage optique est en contact avec la première région (105) et au moins une partie de la seconde région (106). Au moins une partie de la partie de couche (103) de réglage optique en contact avec la seconde région (106) comporte une partie (107) de film mince ayant une épaisseur de film plus petite qu'une épaisseur de film maximale de la partie de couche (103) de réglage optique en contact avec la seconde région (106).
(JA)
 回折光学素子(101)は、回折格子の設けられた第1領域(105)と、第1領域の外側に位置する第2領域(106)と、を表面に含む基体(102)と、第1領域(105)と、第2領域(106)の少なくとも一部と、に接するように表面上に設けられた光学調整層(103)と、を有する。光学調整層(103)のうち第2領域(106)に接している部分の少なくとも一部に、光学調整層(103)のうち第2領域(106)に接している部分の最大膜厚よりも小さい膜厚を有する薄膜部分(107)が設けられている。
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