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1. WO2014188592 - 大気圧プラズマ発生装置、およびプラズマ発生方法

公開番号 WO/2014/188592
公開日 27.11.2014
国際出願番号 PCT/JP2013/064506
国際出願日 24.05.2013
IPC
H05H 1/24 2006.01
H電気
05他に分類されない電気技術
Hプラズマ技術;加速された荷電粒子のまたは中性子の発生;中性分子または原子ビームの発生または加速
1プラズマの生成;プラズマの取扱い
24プラズマの発生
H05H 1/46 2006.01
H電気
05他に分類されない電気技術
Hプラズマ技術;加速された荷電粒子のまたは中性子の発生;中性分子または原子ビームの発生または加速
1プラズマの生成;プラズマの取扱い
24プラズマの発生
46電磁界を用いるもの,例.高周波またはマイクロ波エネルギー
CPC
H05H 1/48
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
HPLASMA TECHNIQUE
1Generating plasma; Handling plasma
24Generating plasma
48using an arc
出願人
  • 富士機械製造株式会社 FUJI MACHINE MFG. CO., LTD. [JP]/[JP]
発明者
  • 日下 航 KUSAKA, Wataru
  • 神藤 高広 JINDO, Takahiro
  • 安田 公彦 YASUDA, Kimihiko
  • 丹羽 陽大 NIWA, Akihiro
代理人
  • 特許業務法人ネクスト NEXT INTERNATIONAL
優先権情報
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) ATMOSPHERIC-PRESSURE PLASMA GENERATION DEVICE AND PLASMA GENERATION METHOD
(FR) DISPOSITIF DE GÉNÉRATION DE PLASMA À LA PRESSION ATMOSPHÉRIQUE ET PROCÉDÉ DE GÉNÉRATION DE PLASMA
(JA) 大気圧プラズマ発生装置、およびプラズマ発生方法
要約
(EN)
An atmospheric-pressure plasma generation device provided with a reaction chamber, a pair of electrodes provided in the reaction chamber so as to face each other, and an outlet through which the plasma generated by applying a voltage between the electrodes is blown out, wherein the voltage is applied between the electrodes after an inert gas is fed into the reaction chamber. After a set time (B) has elapsed since the feeding of the inert gas has commenced, a process gas is fed into the reaction chamber in which the voltage is being applied between the electrodes. It is thereby possible to perform plasma processing without applying a voltage to an object to be processed, and to appropriately perform plasma processing even when said object is a circuit board or the like. In addition, when discharging is performed under atmospheric pressure, the voltage required to produce a discharge in an inert gas is lower than the voltage required for discharging in a mixture of the inert gas and the process gas; therefore, discharging in a reaction chamber into which only the inert gas has been fed makes it possible to reduce the voltage during discharging.
(FR)
La présente invention concerne un dispositif de génération de plasma à la pression atmosphérique doté d'une chambre de réaction, d'une paire d'électrodes disposées dans la chambre de réaction en regard l'une de l'autre, et une sortie à travers laquelle le plasma généré par application d'une tension entre les électrodes, est soufflé, la tension étant appliquée entre les électrodes après qu'un gaz inerte a été introduit dans la chambre de réaction. Après qu'une durée définie (B) s'est écoulée depuis que l'introduction du gaz inerte a commencé, un gaz de procédé est introduit dans la chambre de réaction dans laquelle la tension est appliquée entre les électrodes. Il est ainsi possible d'effectuer le traitement au plasma sans appliquer une tension à un objet à traiter, et d'effectuer de manière appropriée le traitement au plasma même lorsque ledit objet est une carte de circuits imprimés ou similaire. De plus, lorsqu'on effectue la décharge à la pression atmosphérique, la tension requise pour produire une décharge dans un gaz inerte est inférieure à la tension requise destinée à être déchargée dans un mélange de gaz inerte et de gaz de procédé ; la décharge dans la chambre de réaction dans laquelle seul le gaz inerte a été introduit, permet de réduire la tension pendant la décharge.
(JA)
 反応室と、反応室内に対向配置された1対の電極と、1対の電極間への電圧の印加により発生したプラズマを吹き出す吹出口とを備える大気圧プラズマ発生装置において、反応室に不活性ガスが供給された後に、1対の電極間に電圧を印加する。そして、不活性ガスの供給開始から設定時間B経過した後に、処理ガスが、1対の電極間に電圧が印加された反応室に供給される。これにより、被処理物に電圧を印加することなく、プラズマ処理を行うことが可能となり、被処理物が回路基板等であっても、適切にプラズマ処理を行うことが可能となる。また、大気圧下での放電時に、不活性ガス中での放電に必要な電圧は、不活性ガスと処理ガスとの混合ガス中での放電に必要な電圧より低いため、不活性ガスのみが供給された反応室において、放電させることで、放電時の電圧を低くすることが可能となる。
他の公開
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