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1. WO2014185279 - カルバミン酸エステル化合物とこれを含むレジスト製造用溶剤組成物

公開番号 WO/2014/185279
公開日 20.11.2014
国際出願番号 PCT/JP2014/062063
国際出願日 01.05.2014
IPC
C07D 233/60 2006.01
C化学;冶金
07有機化学
D複素環式化合物(高分子化合物C08)
233他の環と縮合していない1,3―ジアゾール環または水素添加した1,3―ジアゾールからなる複素環式化合物
54環原子相互間または環原子と非環原子間に2個の二重結合を有するもの
56環の炭素原子に結合する,水素原子,または水素原子および炭素原子のみを含有する基のみを有するもの
60環の窒素原子に結合し,酸素原子または硫黄原子により置換された炭化水素基
C07D 295/20 2006.01
C化学;冶金
07有機化学
D複素環式化合物(高分子化合物C08)
295環の炭素原子に水素原子のみが直接結合した,少なくとも5員環のポリメチレン―イミン環,3―アザビシクロノナン,ピペラジン,モルホリンまたはチオモルホリン環を含有する複素環式化合物
16環の窒素原子がアシル化されたもの
20炭酸またはその硫黄または窒素類似体から誘導された基によるもの
C07D 405/12 2006.01
C化学;冶金
07有機化学
D複素環式化合物(高分子化合物C08)
405異項原子として酸素原子のみをもつ1個以上の複素環と,異項原子として窒素のみをもつ1個以上の環を含有する複素環式化合物
022個の複素環を含有するもの
12鎖結合として異種原子を含有する鎖により結合しているもの
C08L 101/00 2006.01
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
L高分子化合物の組成物
101不特定の高分子化合物の組成物
G03F 7/004 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
G03F 7/031 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
027炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
028増感物質をもつもの,例.光重合開始剤
031グループG03F7/029に包含されない有機化合物
CPC
C07D 233/60
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
233Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings
54having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
56with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms, attached to ring carbon atoms
60with hydrocarbon radicals, substituted by oxygen or sulfur atoms, attached to ring nitrogen atoms
C07D 295/20
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
295Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2.] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms
16acylated on ring nitrogen atoms
20by radicals derived from carbonic acid, or sulfur or nitrogen analogues thereof
C07D 405/12
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
405Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom
02containing two hetero rings
12linked by a chain containing hetero atoms as chain links
C08L 101/00
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
101Compositions of unspecified macromolecular compounds
G03F 7/031
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
028with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
031Organic compounds not covered by group G03F7/029
出願人
  • 株式会社ダイセル DAICEL CORPORATION [JP]/[JP]
発明者
  • 赤井泰之 AKAI, Yasuyuki
  • 藤田浩平 FUJITA, Kouhei
代理人
  • 後藤幸久 GOTO, Yukihisa
優先権情報
2013-10124213.05.2013JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) CARBAMIC ACID ESTER COMPOUND AND SOLVENT COMPOSITION FOR RESIST PRODUCTION CONTAINING SAME
(FR) COMPOSÉ D'ESTER DE L'ACIDE CARBAMIQUE ET COMPOSITION DE SOLVANT POUR LA PRODUCTION DE RÉSINES PHOTOSENSIBLES LE CONTENANT
(JA) カルバミン酸エステル化合物とこれを含むレジスト製造用溶剤組成物
要約
(EN)
This carbamic acid ester compound is represented by formula (1). (In the formula, R1 is a group having OH removed from alcohol R1OH having a boiling point of 250°C or lower at one atm. R2 and R3 are each independently a hydrogen atom or organic group. However, at least one of R2 and R3 is an organic group. R2 and R3 may bond to each other mediated or not by a hetero atom, and form a ring together with the nitrogen atom shown in the formula.) This carbamic acid ester compound has high compatibility and solubility in the solvents, polymerization initiators, adhesion-imparting agents, and the like used as materials for resist production.
(FR)
L'invention concerne un composé d'ester de l'acide carbamique représenté par la formule (1). (Dans la formule, R1 représente un groupe dont OH a été éliminé d'un alcool R1OH présentant un point d'ébullition de 250°C ou moins à une atm. R2 et R3 représentent chacun indépendamment un atome d'hydrogène ou un groupe organique. Cependant, au moins un parmi R2 et R3 représente un groupe organique. R2 et R3 peuvent être liés l'un à l'autre par l'intermédiaire ou non d'un hétéroatome et former un cycle ensemble avec l'atome d'azote représenté dans la formule.) Ce composé d'ester de l'acide carbamique présente une compatibilité et une solubilité élevées dans les solvants, les initiateurs de polymérisation, les agents conférant une adhérence et analogues, utilisés comme matériaux pour la production de résines photosensibles.
(JA)
 本発明のカルバミン酸エステル化合物は、下記式(1)(式中、R1は1気圧での沸点が250℃以下であるアルコールR1OHからOHを除した基である。R2及びR3は、それぞれ独立に、水素原子又は有機基を示す。但し、R2、R3の少なくとも一方は有機基である。R2及びR3は、ヘテロ原子を介して又は介することなく互いに結合して、式中に示される窒素原子と共に環を形成していてもよい)で表される。本発明のカルバミン酸エステル化合物は、レジスト製造用材料として用いられる溶剤や重合開始剤、密着性付与剤等に対して、相溶性、溶解性が高い。
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