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1. (WO2014174609) 排気ガス処理装置及びその制御方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

国際公開番号: WO/2014/174609 国際出願番号: PCT/JP2013/062062
国際公開日: 30.10.2014 国際出願日: 24.04.2013
IPC:
F01N 3/01 (2006.01) ,B03C 3/41 (2006.01) ,B03C 3/47 (2006.01) ,B03C 3/68 (2006.01) ,F01N 3/02 (2006.01)
出願人: MITSUI ENGINEERING & SHIPBUILDING CO.,LTD.[JP/JP]; 6-4, Tsukiji 5-chome, Chuo-ku, Tokyo 1048439, JP
発明者: KATO, Toshihito; JP
NOZU, Masashi; JP
MATSUOKA, Katsunori; JP
IMAI, Kanehisa; JP
代理人: SEIRYU PATENT PROFESSIONAL CORPORATION; 37 Kowa Building, 4-5, Tsukiji 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040045, JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) EXHAUST GAS TREATMENT DEVICE AND METHOD FOR CONTROLLING SAME
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DES GAZ D'ÉCHAPPEMENT ET PROCÉDÉ PERMETTANT DE COMMANDER CE DERNIER
(JA) 排気ガス処理装置及びその制御方法
要約: front page image
(EN)  Provided are an exhaust gas treatment device and a method for controlling the same, the exhaust gas treatment device being capable of maintaining the concentration of particulate matter (PM) in exhaust gas in an outlet of an exhaust gas treatment device (DPF) within a specific value, even when the PM concentration significantly increases at times such as engine start-up, in addition to when the PM concentration is low. The control method includes: a step for applying AC current to a pre-stage electrode (2), generating thermal non-equilibrium plasma between electrode plates (4) of the pre-stage electrode (2), and charging the particulate matter (PM); and a step for performing first control under a first condition to apply DC current to a post-stage electrode (3) and cause the electrode plates (4) of the post-stage electrode (3) to attract the particulate matter, and performing second control under a second condition to apply AC current to the post-stage electrode (3) and generate thermal non-equilibrium plasma between the electrode plates (4) of the post-stage electrode (3) to oxidize the particulate matter.
(FR) La présente invention se rapporte à un dispositif de traitement des gaz d'échappement et à un procédé permettant de commander ce dernier, le dispositif de traitement des gaz d'échappement pouvant maintenir la concentration en matières particulaires (PM) présentes dans les gaz d'échappement dans un orifice de sortie d'un dispositif de traitement de gaz d'échappement (DPF) à une valeur spécifique même lorsque la concentration en matières particulaires augmente significativement, par exemple comme lors du démarrage du moteur en plus du moment où la concentration en matières particulaires est faible. Le procédé de commande comprend : une étape consistant à appliquer un courant alternatif à une électrode de pré-étage (2), à générer un plasma sans équilibre thermique entre des plaques-électrodes (4) de l'électrode de pré-étage (2), et à charger la matière particulaire ; et une étape consistant à effectuer une première commande sous une première condition pour appliquer un courant continu à une électrode de post-étage (3) et amener les plaques-électrodes (4) de l'électrode de post-étage (3) à attirer la matière particulaire, et à effectuer une seconde commande sous une seconde condition pour appliquer un courant alternatif à l'électrode de post-étage (3) et générer un plasma sans équilibre thermique entre les plaques-électrodes (4) de l'électrode de post-étage (3) pour oxyder la matière particulaire.
(JA)  排気ガス中の粒子状物質(PM)の濃度が低い場合に加え、エンジン始動時等、PMの濃度が飛躍的に高まった場合であっても、排気ガス処理装置(DPF)の出口におけるPMの濃度を一定値以下に維持することができる排気ガス処理装置及びその制御方法を提供する。前段電極(2)に交流電流を印加し、前段電極(2)の電極板(4)の間に非熱平衡プラズマを発生させ粒子状物質(PM)を帯電させるステップと、第1の条件下では、後段電極(3)に直流電流を印加し、後段電極(3)の電極板(4)に粒子状物質を吸着する第1制御を行い、第2の条件下では、後段電極(3)に交流電流を印加し、後段電極(3)の電極板(4)の間に非熱平衡プラズマを発生させ粒子状物質を酸化する第2制御を行うステップを有する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)