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1. (WO2014174352) 露光装置

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2014/174352    国際出願番号:    PCT/IB2014/000553
国際公開日: 30.10.2014 国際出願日: 16.04.2014
G03F 7/20 (2006.01), G01B 11/00 (2006.01), G02B 26/08 (2006.01), G03F 9/00 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: ORC MANUFACTURING CO., LTD. [JP/JP]; 9-6, Oyamagaoka 3-chome, Machida-shi, Tokyo 194-0215 (JP)
発明者: OKUYAMA, Takashi; (JP)
代理人: MATSUURA, Takashi; Fuji Bldg. #418, 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100-0005 (JP)
2013-086730 17.04.2013 JP
(JA) 露光装置
要約: front page image
(EN)The present invention is a method for accurately detecting a pattern formation position in a maskless exposure device. This maskless exposure device is equipped with a position detection unit having first and second photosensor groups that are positioned at an incline in reverse directions to one another with respect to a first scanning direction. By controlling a plurality of optical modulating elements, scanning is carried out while projecting light of first and second position detection pattern rows on the position detection unit, thereby detecting the position. The light of first and second position detection pattern rows is inclined along the directions perpendicular to that in which first and second photosensor groups are aligned, and the pattern width in the alignment direction of the first and second photosensor groups is smaller than the photosensor width, and larger than the interval between the photosensors. Said position detection pattern is scanned above the position detection unit, and the exposure position at which the level of the brightness signal outputted from the adjoining photosensors becomes the same is detected in a time series for the first series of exposure positions and the second series of exposure positions.
(FR)La présente invention concerne un procédé de détection précise de la position de formation de motif dans un dispositif d'exposition sans masque. Le dispositif d'exposition sans masque est équipé d'une unité de détection de position ayant des premier et deuxième groupes de photodétecteurs qui sont positionnés de manière inclinée dans des directions opposées l'une à l'autre par rapport à une première direction de balayage. En contrôlant une pluralité d'éléments de modulation optique, un balayage est exécuté tout en projetant une lumière de première et deuxième rangées de motif de détection de position sur l'unité de détection de position, ce qui permet de détecter la position. La lumière des première et deuxième rangées de motif de détection de position est inclinée le long des directions perpendiculaires à celles le long desquelles sont alignés les premier et deuxième groupes de photodétecteurs, et la largeur du motif dans la direction d'alignement des premier et deuxième groupes de photodétecteurs est inférieure à la largeur des photodétecteurs, et supérieure à l'intervalle entre les photodétecteurs. Ledit motif de détection de position est balayé au-dessus de l'unité de détection de position, et la position d'exposition à laquelle le niveau du signal de luminosité émis par les photodétecteurs contigus devient identique est détectée à une série d'instants pour la première série de positions d'exposition et la deuxième série de positions d'exposition.
(JA) 本発明は、マスクレス露光装置において、正確にパターン形成位置を検出する方法である。 主走査方向に対し、それぞれ逆方向に傾斜配置された第1、第2フォトセンサ群を有する位置検出部を備え、複数の光変調素子を制御することで、当該位置検出部上に、第1及び第2位置検出パターン列の光を投影しつつ走査することで位置を検出する。 第1及び第2位置検出パターン列の光は、第1及び第2フォトセンサ群の配列垂直方向に沿ってそれぞれ傾斜し、第1及び第2フォトセンサ群の配列方向に沿った各パターン幅が、フォトセンサ幅よりも小さく、フォトセンサ間隔よりも大きいものである。 そして、位置検出部上に当該位置検出パターンを走査して、隣り合うフォトセンサから出力される輝度信号のレベルが等しくなる露光位置を、第1の一連の露光位置及び第2の一連の露光位置について時系列に検出するものである。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)