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1. (WO2014168140) ESD保護装置及びその製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2014/168140    国際出願番号:    PCT/JP2014/060180
国際公開日: 16.10.2014 国際出願日: 08.04.2014
IPC:
H01T 4/12 (2006.01), H01T 4/10 (2006.01)
出願人: MURATA MANUFACTURING CO., LTD. [JP/JP]; 10-1, Higashikotari 1-chome, Nagaokakyo-shi, Kyoto 6178555 (JP)
発明者: ADACHI, Jun; (JP)
代理人: MIYAZAKI & METSUGI; Chuo Odori FN Bldg., 3-8, Tokiwamachi 1-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5400028 (JP)
優先権情報:
2013-082601 11.04.2013 JP
発明の名称: (EN) ESD PROTECTION DEVICE AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
(FR) ESD保護装置及びその製造方法 DISPOSITIF DE PROTECTION DE DISSIPATION ÉLECTROSTATIQUE, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELUI-CI
(JA) ESD保護装置及びその製造方法
要約: front page image
(EN)Provided is an ESD protection device capable of reducing discharge start voltage, without increasing cost. The ESD protection device (1) has: a first discharge electrode (3) and a second discharge electrode (4) facing each other, inside an insulator; and a plurality of hollow cavities (5a) provided in a discharge gap formation layer (5) interposed between the first discharge electrode (3) and the second discharge electrode (4).
(FR)L'invention fournit un dispositif de protection de dissipation électrostatique qui permet d'abaisser une tension initiale de décharge, sans entraîner de hausse de coût. Dans ce dispositif de protection de dissipation électrostatique, une première électrode de décharge (3) et une seconde électrode de décharge (4) s'opposent à l'intérieur d'un corps isolant. Une pluralité de cavités (5a) est agencée dans une couche de formation d'espace de décharge (5) enserrée entre la première et la seconde électrode de décharge (3, 4).
(JA) コストの上昇を招くことなく、放電開始電圧を低め得る、ESD保護装置を提供する。 絶縁体内において、第1の放電電極3と第2の放電電極4とが対向されており、第1の放電電極3と第2の放電電極4との間に挟まれている放電ギャップ形成層5に複数の空洞5aが設けられている、ESD保護装置1。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)