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1. (WO2014168073) 酸化物スパッタリングターゲット、その製造方法及び光記録媒体用保護膜
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2014/168073    国際出願番号:    PCT/JP2014/059866
国際公開日: 16.10.2014 国際出願日: 03.04.2014
IPC:
C23C 14/34 (2006.01), C23C 14/08 (2006.01), G11B 7/254 (2013.01), G11B 7/257 (2013.01), G11B 7/26 (2006.01)
出願人: MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION [JP/JP]; 3-2, Otemachi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008117 (JP)
発明者: SAITO Atsushi; (JP).
MORI Rie; (JP)
代理人: SHIGA Masatake; 1-9-2, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1006620 (JP)
優先権情報:
2013-080247 08.04.2013 JP
発明の名称: (EN) OXIDE SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING SAME, AND PROTECTIVE FILM FOR OPTICAL RECORDING MEDIA
(FR) CIBLE DE PULVÉRISATION CATHODIQUE D'OXYDE ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION, ET FILM PROTECTEUR POUR SUPPORTS D'ENREGISTREMENT OPTIQUE
(JA) 酸化物スパッタリングターゲット、その製造方法及び光記録媒体用保護膜
要約: front page image
(EN)An oxide sputtering target according to the present invention comprises a sintered oxide that comprises Sn in an amount of 7 at% or more and In in an amount of 0.1 to 35.0 at% both relative to the total amount of all of metal components, with the remainder made up by Zn and unavoidable impurities. In the sintered oxide, the atom content ratios of Sn to Zn, i.e., Sn/(Sn+Zn), is 0.5 or less. The sintered oxide has a structure that contains, as the main phase, Zn2SnO4 in which In exists in the form of a solid solution.
(FR)L'invention concerne une cible de pulvérisation cathodique d'oxyde comprenant un oxyde fritté qui comprend du Sn dans une quantité de 7 % atomique ou plus et de l'In dans une quantité de 0,1 à 35,0 % atomique tous deux par rapport à la quantité totale de tous les composants de métal, le reste étant constitué de Zn et d'impuretés inévitables. Dans l'oxyde fritté, les rapports de teneur atomique de Sn sur Zn, c'est-à-dire, Sn/(Sn+Zn), sont de 0,5 ou moins. L'oxyde fritté a une structure qui contient, comme phase principale, du Zn2SnO4 dans lequel In existe sous forme d'une solution solide.
(JA)本発明の酸化物スパッタリングターゲットは、全金属成分量に対して、Sn:7at%以上と、In:0.1~35.0at%とを含有し、残部がZn及び不可避不純物からなり、SnとZnとの含有原子比Sn/(Sn+Zn)が0.5以下であり、Inが固溶したZnSnOを主相とした組織を有する酸化物焼結体である。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)