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1. (WO2014167682) エッチング方法及びエッチング装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2014/167682    国際出願番号:    PCT/JP2013/060885
国際公開日: 16.10.2014 国際出願日: 11.04.2013
IPC:
C23F 1/08 (2006.01), H05K 3/06 (2006.01)
出願人: CHEMITRON INC. [JP/JP]; 2-3, Nishi Shinjuku, 6-Chome, Shinjuku-Ku, Tokyo 1600023 (JP)
発明者: AKIYAMA, Masanori; (JP).
MATSUO, Tatsuhiko; (JP)
代理人: YONEYAMA, Hisashi; Yoneyama International Patent Bureau, Kanda-Mihama Bldg, 8th Floor, 1-7, Kanda-Sudacho, Chiyoda-ku, Tokyo 1010041 (JP)
優先権情報:
発明の名称: (EN) ETCHING METHOD AND ETCHING APPARATUS
(FR) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF DE GRAVURE
(JA) エッチング方法及びエッチング装置
要約: front page image
(EN)The present invention is provided with a first etching step and a second etching step. In the first etching step, an etchant is ejected from a first fluid nozzle (20) and sprayed onto the etching surface of an etching object (1), whereby the etching surface is etched. In the second etching step, the etchant and a gas are mixed and ejected from a second fluid nozzle (30), and the etchant is sprayed onto the etching surface etched in the first etching step, whereby the etching surface if further etched. In the second etching step, the etchant in the form of liquid droplets smaller than those in the first etching step is sprayed onto the etching surface with a greater impact force than in the first etching step.
(FR)Le procédé de l'invention comporte : une première étape de gravure au cours de laquelle un liquide de gravure est pulvérisé par une buse à un fluide (20), puis soufflé sur une face objet de la gravure d'un article (1) objet de la gravure, et la face objet de la gravure est ainsi gravée; et une seconde étape de gravure au cours de laquelle le liquide de gravure et un gaz sont mélangés et pulvérisés par une buse à deux fluides (30), puis le liquide de gravure est soufflé sur la face objet de la gravure gravée lors de la première étape de gravure, et la face objet de la gravure est ainsi à nouveau gravée. Lors de la seconde étape de gravure, le liquide de gravure en gouttes plus fines que lors de la première étape de gravure, est soufflé sur la face objet de la gravure avec une puissance de frappe plus forte que lors de la première étape de gravure.
(JA)エッチング液を1流体ノズル20から噴射してエッチング対象物1のエッチング対象面に吹き付けることによって、エッチング対象面をエッチングする第1のエッチング工程と、エッチング液と気体とを混合して2流体ノズル30から噴射し、第1のエッチング工程でエッチングされたエッチング対象面にエッチング液を吹き付けることによって、エッチング対象面をさらにエッチングする第2のエッチング工程と、を備える。第2のエッチング工程では、第1のエッチング工程よりも微小液滴のエッチング液を、第1のエッチング工程よりも強い打力でエッチング対象面に吹き付ける。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)