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1. (WO2014163115) アレイ基板、液晶表示素子および感放射線性樹脂組成物
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2014/163115    国際出願番号:    PCT/JP2014/059758
国際公開日: 09.10.2014 国際出願日: 02.04.2014
IPC:
G02F 1/1333 (2006.01), G02F 1/1343 (2006.01), G02F 1/1368 (2006.01)
出願人: JSR CORPORATION [JP/JP]; 1-9-2, Higashi-Shinbashi, Minato-ku, Tokyo 1058640 (JP)
発明者: MAKIUCHI, Naoyuki; (JP).
SUZUKI, Yasunobu; (JP)
代理人: OOAKU, Atsuko; Tamuracho Building., 3-3-14, Shinbashi, Minato-ku, Tokyo 1050004 (JP)
優先権情報:
2013-079537 05.04.2013 JP
発明の名称: (EN) ARRAY SUBSTRATE, LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT, AND RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION
(FR) SUBSTRAT DE MATRICE, ÉLÉMENT D'AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES, ET COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AU RAYONNEMENT
(JA) アレイ基板、液晶表示素子および感放射線性樹脂組成物
要約: front page image
(EN)Provided are: an array substrate which can be easily formed, and which is provided with an insulation film, the dielectric properties of which can be controlled; a liquid crystal display element provided with said array substrate; and a radiation-sensitive resin composition for forming said insulation film. An array substrate (1) is produced by forming an insulation film (12) upon a substrate (4) having an active element (8) formed thereon, and disposing, upon the insulation film (12), a common electrode (14), an interlayer insulation film (33), and a comb-shaped pixel electrode (9). A radiation-sensitive resin composition is used to form the interlayer insulation film (33), said radiation-sensitive resin composition including: [X] an alkali-soluble resin; [Y] oxide particles of at least one metal selected from the group consisting of aluminium, zirconium, titanium, zinc, indium, tin, antimony, and cerium; [Z] a multifunctional acrylate; [V] a chain transfer agent; and [W] a radiation-sensitive polymerization initiator. The array substrate (1) is used to configure a liquid crystal display element.
(FR)L'invention concerne : un substrat de matrice qui peut être facilement formé, et qui est pourvu d'un film d'isolation susceptible de commander les propriétés diélectriques ; un élément d'affichage à cristaux liquides comportant ledit substrat de matrice ; et une composition de résine sensible au rayonnement pour former ledit film d'isolation. Le substrat de matrice (1) est produit par la formation du film d'isolation (12) sur un substrat (4) sur lequel un élément actif (8) est formé, et la disposition, sur le film d'isolation (12), d'une électrode commune (14), d'un film d'isolation de couche intermédiaire (33), et d'une électrode de pixel en forme de peigne (9). Une composition de résine sensible au rayonnement est utilisée pour former le film d'isolation de couche intermédiaire (33), ladite composition de résine sensible au rayonnement comprenant : [X] une résine soluble dans les alkalis ; [Y] des particules d'oxyde d'au moins un métal choisi dans le groupe constitué d'aluminium, zirconium, titane, zinc, indium, étain, antimoine et cérium ; [Z] un acrylate multifonctionnel ; [V] un agent de transfert de chaîne ; et [W] un initiateur de polymérisation sensible au rayonnement. Le substrat de matrice (1) est utilisé pour configurer un élément d'affichage à cristaux liquides.
(JA) 簡便に形成できて誘電特性の制御が可能な絶縁膜を備えたアレイ基板と、そのアレイ基板を備えた液晶表示素子およびその絶縁膜を形成する感放射線性樹脂組成物を提供する。 能動素子8の形成された基板4上に絶縁膜12を形成し、絶縁膜12の上に共通電極14と層間絶縁膜33と櫛歯形状の画素電極9とを配置して、アレイ基板1を製造する。層間絶縁膜33の形成には、[X]アルカリ可溶性樹脂、[Y]アルミニウム、ジルコニウム、チタニウム、亜鉛、インジウム、スズ、アンチモンおよびセリウムよりなる群から選ばれる少なくとも一種の金属の酸化物粒子、[Z]多官能アクリレート、[V]連鎖移動剤、[W]感放射線性重合開始剤を含有する感放射線性樹脂組成物を使用する。アレイ基板1を用いて液晶表示素子を構成する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)