(EN) The present invention provides a manufacturing method for magnetic disk glass substrates such that micro-waviness in a range of 50-150 μm in a profile can be reduced. In the present invention, the amount of sinkage into a polishing pad when a circular section of a cylindrical indenter with a diameter of 50 μm is pressed with a load of 2.5 mN from the surface of the polishing pad is measured consecutively on the polishing pad surface in 50 μm intervals at 12 points, and a polishing pad which has a standard deviation of 0.15 μm acquired from data for sinkage amounts for 10 points excluding the largest value and the smallest value of the acquired sinkage amounts is used in the polishing treatment.
(FR) L'invention concerne un procédé de fabrication pour des substrats de verre de disques magnétiques permettant de réduire la micro-ondulation dans une plage de 50 à 150 μm dans un profil. Selon l'invention, la quantité de retrait dans un tampon de polissage, lorsqu'une section circulaire d'un pénétrateur cylindrique d'un diamètre de 50 μm est compressée avec une charge de 2,5 mN à partir de la surface du tampon de polissage, est mesurée successivement sur la surface du tampon de polissage à des intervalles de 50 μm à 12 points, et un tampon de polissage qui possède un écart type de 0,15 μm acquis à partir des données pour des quantités de retrait de 10 points, à l'exclusion de la valeur maximale et de la valeur minimale des quantités de retrait acquises, est utilisé pour le traitement de polissage.
(JA) 本発明は、形状波長５０～１５０μｍの範囲の微小うねりを低減できる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。 本発明では、直径が５０μｍの円柱状圧子の円形部分を研磨パッドの表面から２．５ｍＮの荷重で押し込んだ際の研磨パッドの沈み込み量を、研磨パッド表面の５０μｍ間隔で連続して１２点計測し、取得された沈み込み量のうち最大値と最小値を除く１０点の沈み込み量のデータから取得した標準偏差が０．１５μｍ以下である研磨パッドを研磨処理に使用する。
