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1. WO2014163026 - 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法、並びに研磨パッド

公開番号 WO/2014/163026
公開日 09.10.2014
国際出願番号 PCT/JP2014/059379
国際出願日 30.03.2014
IPC
G11B 5/84 2006.1
G物理学
11情報記憶
B記録担体と変換器との間の相対運動に基づいた情報記録
5記録担体の磁化または減磁による記録;磁気的手段による再生;そのための記録担体
84記録担体の製造に特に適合する方法または装置
B24B 37/005 2012.1
B処理操作;運輸
24研削;研磨
B研削または研磨するための機械,装置,または方法;研削面のドレッシングまたは正常化;研削剤,研磨剤,またはラッピング剤の供給
37ラッピング機械または装置;附属装置
005ラッピング機械または装置の制御手段
B24B 37/11 2012.1
B処理操作;運輸
24研削;研磨
B研削または研磨するための機械,装置,または方法;研削面のドレッシングまたは正常化;研削剤,研磨剤,またはラッピング剤の供給
37ラッピング機械または装置;附属装置
11ラップ工具
C03C 19/00 2006.1
C化学;冶金
03ガラス;鉱物またはスラグウール
Cガラス,うわ薬またはガラス質ほうろうの化学組成;ガラスの表面処理;ガラス,鉱物またはスラグ製の繊維またはフィラメントの表面処理;ガラスのガラスまたは他物質への接着
19繊維やフィラメントの形態をとらないガラスの,機械的手段による表面処理(ガラスのサンドブラスト,荒けずりまたはつや出しB24)
CPC
B24B 37/042
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
24GRINDING; POLISHING
BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING
37Lapping machines or devices; Accessories
04designed for working plane surfaces
042operating processes therefor
C03C 21/002
CCHEMISTRY; METALLURGY
03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
21Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface
001in liquid phase, e.g. molten salts, solutions
002to perform ion-exchange between alkali ions
G11B 5/8404
GPHYSICS
11INFORMATION STORAGE
BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
5Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
84Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
8404manufacturing base layers
出願人
  • HOYA株式会社 HOYA CORPORATION [JP]/[JP]
発明者
  • 俵 義浩 TAWARA Yoshihiro
代理人
  • 大塚 武史 OTSUKA Takefumi
優先権情報
2013-07548730.03.2013JP
2013-07548830.03.2013JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (ja)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) MANUFACTURING METHOD FOR MAGNETIC DISK GLASS SUBSTRATES, MANUFACTURING METHOD FOR MAGNETIC DISK, AND POLISHING PAD
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION POUR SUBSTRATS DE VERRE DE DISQUES MAGNÉTIQUES, PROCÉDÉ DE FABRICATION POUR DISQUE MAGNÉTIQUE, ET TAMPON DE POLISSAGE
(JA) 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法、並びに研磨パッド
要約
(EN) The present invention provides a manufacturing method for magnetic disk glass substrates such that micro-waviness in a range of 50-150 μm in a profile can be reduced. In the present invention, the amount of sinkage into a polishing pad when a circular section of a cylindrical indenter with a diameter of 50 μm is pressed with a load of 2.5 mN from the surface of the polishing pad is measured consecutively on the polishing pad surface in 50 μm intervals at 12 points, and a polishing pad which has a standard deviation of 0.15 μm acquired from data for sinkage amounts for 10 points excluding the largest value and the smallest value of the acquired sinkage amounts is used in the polishing treatment.
(FR) L'invention concerne un procédé de fabrication pour des substrats de verre de disques magnétiques permettant de réduire la micro-ondulation dans une plage de 50 à 150 μm dans un profil. Selon l'invention, la quantité de retrait dans un tampon de polissage, lorsqu'une section circulaire d'un pénétrateur cylindrique d'un diamètre de 50 μm est compressée avec une charge de 2,5 mN à partir de la surface du tampon de polissage, est mesurée successivement sur la surface du tampon de polissage à des intervalles de 50 μm à 12 points, et un tampon de polissage qui possède un écart type de 0,15 μm acquis à partir des données pour des quantités de retrait de 10 points, à l'exclusion de la valeur maximale et de la valeur minimale des quantités de retrait acquises, est utilisé pour le traitement de polissage.
(JA)  本発明は、形状波長50~150μmの範囲の微小うねりを低減できる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。 本発明では、直径が50μmの円柱状圧子の円形部分を研磨パッドの表面から2.5mNの荷重で押し込んだ際の研磨パッドの沈み込み量を、研磨パッド表面の50μm間隔で連続して12点計測し、取得された沈み込み量のうち最大値と最小値を除く10点の沈み込み量のデータから取得した標準偏差が0.15μm以下である研磨パッドを研磨処理に使用する。
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