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1. (WO2014157681) ポリオルガノシロキサンの製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2014/157681    国際出願番号:    PCT/JP2014/059322
国際公開日: 02.10.2014 国際出願日: 28.03.2014
IPC:
C08G 77/34 (2006.01), C08G 64/18 (2006.01), C08G 77/08 (2006.01), C08G 81/00 (2006.01)
出願人: IDEMITSU KOSAN CO.,LTD. [JP/JP]; 1-1, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008321 (JP)
発明者: ABE, Tomoko; (JP).
ISHIKAWA, Yasuhiro; (JP)
代理人: OHTANI, Tamotsu; (JP)
優先権情報:
2013-075274 29.03.2013 JP
2013-123945 12.06.2013 JP
発明の名称: (EN) POLYORGANOSILOXANE PRODUCTION METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE POLYORGANOSILOXANE
(JA) ポリオルガノシロキサンの製造方法
要約: front page image
(EN)A polyorganosiloxane production method whereby a polyorganosiloxane produced using a transition metal-based catalyst is caused to come in contact with an adsorbent having an average pore diameter of no more than 1,000 Å.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication de polyorganosiloxane, selon lequel un polyorganosiloxane fabriqué à l'aide d'un catalyseur à base de métal de transition, est mis en contact avec un adhésif possédant un diamètre moyen de pore inférieur ou égal à 1000Å.
(JA) 遷移金属系触媒を用いて製造されたポリオルガノシロキサンを、1000Å以下の平均細孔直径を有する吸着剤と接触させる、ポリオルガノシロキサンの製造方法。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)