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1. (WO2014156910) 組成物、パターンが形成された基板の製造方法、膜及びその形成方法並びに化合物
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

国際公開番号: WO/2014/156910 国際出願番号: PCT/JP2014/057626
国際公開日: 02.10.2014 国際出願日: 19.03.2014
IPC:
C08G 65/40 (2006.01) ,C07C 255/51 (2006.01) ,C07D 493/10 (2006.01) ,G03F 7/11 (2006.01) ,H01L 21/027 (2006.01)
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
G
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物
65
高分子の主鎖にエーテル連結基を形成する反応により得られる高分子化合物
34
ヒドロキシ化合物またはその金属誘導体からの
38
フェノールから誘導されるもの
40
フェノールおよび他の化合物からの
C 化学;冶金
07
有機化学
C
非環式化合物または炭素環式化合物
255
カルボン酸ニトリル
49
シアノ基が,炭素骨格の6員芳香環の炭素原子に結合しているもの
50
非縮合6員芳香環の炭素原子に結合しているもの
51
炭素骨格に結合している少なくとも2個のシアノ基を含有するもの
C 化学;冶金
07
有機化学
D
複素環式化合物(高分子化合物C08)
493
縮合系中に異項原子として酸素原子のみを含有する複素環式化合物
02
縮合系が2個の複素環を含有するもの
10
スピロ―縮合系
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
09
構造の細部,例.支持体,補助層,に特徴のあるもの
11
被覆層又は中間層,例.下塗層をもつもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
027
その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループ21/18または21/34に分類されないもの
出願人: JSR CORPORATION[JP/JP]; 9-2, Higashi-Shinbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058640, JP
発明者: NAKAFUJI Shin-ya; JP
TOYOKAWA Fumihiro; JP
WAKAMATSU Gouji; JP
TAKIMOTO Yoshio; JP
MIZOGUCHI Katsuhisa; JP
OKADA Takashi; JP
UNO Takaaki; JP
ENDO Takeshi; JP
MORITSUGU Masaki; JP
代理人: AMANO Kazunori; c/o Amano & Partners, 6th Floor, Fujikogyo-Nishimotomachi Building, 1-18, Aioi-cho 1-chome, Chuo-ku, Kobe-shi, Hyogo 6500025, JP
優先権情報:
2013-07530429.03.2013JP
2013-07532329.03.2013JP
発明の名称: (EN) COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING SUBSTRATE HAVING PATTERN FORMED THEREON, FILM AND METHOD FOR PRODUCING SAME, AND COMPOUND
(FR) COMPOSITION, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE SUBSTRAT AYANT UN MOTIF FORMÉ SUR CELUI-CI, FILM ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION ET COMPOSÉ
(JA) 組成物、パターンが形成された基板の製造方法、膜及びその形成方法並びに化合物
要約:
(EN) The present invention is a composition comprising a compound having a partial structure represented by formula (1) and a solvent. In formula (1), X1 and X2 independently represent a substituted or unsubstituted 4- to 10-membered cyclic structure which is constituted along with a spiro carbon atom and a carbon atom in an aromatic ring, n1 and n2 independently represent an integer of 0 to 2, and k1 + k2 independently represent an integer of 1 to 8, wherein the sum total of k1 and k2 (i.e., k1 + k2) is 2 to 16 inclusive, the compound is preferably represented by formula (2), and the sum total of k1 and k2 (i.e., k1 + k2) in formula (1) is preferably 3 or greater.
(FR) La présente invention concerne une composition comprenant un composé ayant une structure partielle représentée par la formule (1) et un solvant. Dans la formule (1), X1 et X2 représentent indépendamment une structure cyclique à 4 à 10 chaînons, substituée ou non substituée, qui est constituée avec un atome de carbone spiro et un atome de carbone dans un noyau aromatique, n1 et n2 représentent indépendamment un entier de 0 à 2 et k1 + k2 représentent indépendamment un entier de 1 à 8, la somme totale de k1 et k2 (à savoir, k1 + k2) étant 2 à 16, bornes incluses, le composé étant de préférence représenté par la formule (2) et la somme totale de k1 et k2 (à savoir, k1 + k2) dans la formule (1) étant de préférence 3 ou plus.
(JA)  本発明は、下記式(1)で表される部分構造を有する化合物、及び溶媒を含有する組成物である。下記式(1)中、X及びXは、それぞれ独立して、スピロ炭素原子及び芳香環の炭素原子と共に構成される置換又は非置換の環員数4~10の環構造を表す。n1及びn2は、それぞれ独立して、0~2の整数である。k1+k2は、それぞれ独立して、1~8の整数である。但し、k1+k2は、2以上16以下である。上記化合物は、下記式(2)で表されることが好ましい。上記式(1)におけるk1+k2としては3以上が好ましい。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)