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1. (WO2014156619) 静電チャック装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2014/156619    国際出願番号:    PCT/JP2014/056364
国際公開日: 02.10.2014 国際出願日: 11.03.2014
IPC:
H01L 21/683 (2006.01), B23Q 3/15 (2006.01), H02N 13/00 (2006.01)
出願人: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO., LTD. [JP/JP]; 6-28, Rokuban-cho, Chiyoda-ku, Tokyo 1028465 (JP)
発明者: MORIYA Yoshiaki; (JP).
ANDO Kazuto; (JP)
代理人: SHIGA Masatake; 1-9-2, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1006620 (JP)
優先権情報:
2013-071739 29.03.2013 JP
発明の名称: (EN) ELECTROSTATIC CHUCK DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE MANDRIN ÉLECTROSTATIQUE
(JA) 静電チャック装置
要約: front page image
(EN)Provided is an electrostatic chuck device not only capable of suppressing a source of particles to more prevent particles from being attached to the rear surface of a plate-like sample, but also capable of improving the effect of cooling the plate-like sample with a cooling gas. The electrostatic chuck device is equipped with an electrostatic chuck unit having a ceramic plate-like body (2), the upper surface (2a) of which is used as a mounting surface on which a wafer is mounted and an electrostatic adsorption electrode equipped inside the ceramic plate-like body (2) or on the rear surface thereof. In the electrostatic chuck device, a plurality of protrusions (11) are formed on the upper surface (2a), and a plurality of tiny protrusions (13) are formed in a region (12) excluding the protrusions (11) formed on the upper surface (2a).
(FR)L'invention porte sur un dispositif de mandrin électrostatique capable non seulement de supprimer une source de particules pour empêcher davantage des particules d'être fixées à la surface arrière d'un échantillon en forme de plaque, mais également capable d'améliorer l'effet de refroidissement de l'échantillon en forme de plaque avec un gaz de refroidissement. Le dispositif de mandrin électrostatique comporte une unité de mandrin électrostatique ayant un corps en forme de plaque de céramique (2), la surface supérieure (2a) de celui-ci étant utilisée en tant que surface de montage sur laquelle une tranche de semi-conducteur est montée et une électrode d'adsorption électrostatique équipée à l'intérieur du corps en forme de plaque de céramique (2) ou sur la surface arrière de celui-ci. Dans le dispositif de mandrin électrostatique, une pluralité de saillies (11) sont formées sur la surface supérieure (2a), et une pluralité de saillies minuscules (13) sont formées dans une région (12) ne comprenant pas les saillies (11) formées sur la surface supérieure (2a).
(JA)パーティクルの発生源を抑制することで、板状試料の裏面へのパーティクルの付着をより抑制することができ、しかも、板状試料の冷却ガスによる冷却効果を向上させることのできる静電チャック装置が提供される。そのような静電チャック装置は、セラミック板状体(2)の上面(2a)をウエハを載置する載置面とし、このセラミック板状体(2)の内部または裏面に静電吸着用電極を備えた静電チャック部を備えてなる静電チャック装置において、この上面(2a)に複数の突起部(11)を形成し、この上面(2a)の複数の突起部(11)を除く領域(12)に、複数の微小突起部(13)を形成している。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)