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1. (WO2014129582) 水酸基を有するアリールスルホン酸塩含有レジスト下層膜形成組成物
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2014/129582    国際出願番号:    PCT/JP2014/054168
国際公開日: 28.08.2014 国際出願日: 21.02.2014
IPC:
G03F 7/11 (2006.01), G03F 7/26 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 7-1, Kanda-Nishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010054 (JP)
発明者: ENDO, Takafumi; (JP).
HASHIMOTO, Keisuke; (JP).
NISHIMAKI, Hirokazu; (JP).
SAKAMOTO, Rikimaru; (JP)
代理人: HANABUSA, Tsuneo; c/o Hanabusa Patent Office, Shin-Ochanomizu Urban Trinity, 2, Kandasurugadai 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010062 (JP)
優先権情報:
2013-034217 25.02.2013 JP
発明の名称: (EN) RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION CONTAINING ARYL SULFONATE SALT HAVING HYDROXYL GROUP
(FR) COMPOSITION DE FORMATION DE FILM DE SOUS-COUCHE DE RÉSERVE CONTENANT UN SEL DE SULFONATE D'ARYLE AYANT UN GROUPE HYDROXYLE
(JA) 水酸基を有するアリールスルホン酸塩含有レジスト下層膜形成組成物
要約: front page image
(EN)[Problem] To provide a resist underlayer film-forming composition which has high storage stability by being suppressed in aging and reduces the amount of a sublimate produced from a resist underlayer film during a firing process. [Solution] A resist underlayer film-forming composition which contains an aryl sulfonate salt compound having a hydroxyl group, said aryl sulfonate salt compound being represented by formula (1). (In the formula, Ar represents a benzene ring or an aromatic hydrocarbon ring to which a benzene ring is fused; m1 represents an integer of from 0 to (2 + 2n); each of m2 and m3 represents an integer of from 1 to (3 + 2n); (m1 + m2 + m3) represents an integer of from 2 to (4 + 2n); and X+ represents NH4+, a primary ammonium ion, a secondary ammonium ion, a tertiary ammonium ion, a quaternary ammonium ion, a sulfonium ion or an iodonium cation. In this connection, n represents the number of benzene rings or the number of benzene rings fused to the aromatic hydrocarbon ring, which is an integer of 1-6.)
(FR)L'invention a pour but de proposer une composition de formation de film de sous-couche de réserve qui présente une stabilité de stockage élevée par suppression du vieillissement et qui réduit la quantité d'un produit sublimé produit à partir d'un film de sous-couche de réserve pendant un procédé de cuisson. A cet effet, l'invention concerne une composition de formation de film de sous-couche de réserve qui contient un composé de sel de sulfonate d'aryle ayant un groupe hydroxyle, ledit composé de sel de sulfonate d'aryle étant représenté par la formule (1). (Dans la formule, Ar représente un noyau benzène ou un noyau hydrocarboné aromatique auquel un noyau benzène est fusionné; m1 représente un entier de 0 à (2 + 2n); chacun parmi m2 et m3 représente un entier de 1 à (3 + 2n); (m1 + m2 + m3) représente un entier de 2 à (4 + 2n); et X+ représente NH4+, un ion ammonium primaire, un ion ammonium secondaire, un ion ammonium tertiaire, un ion ammonium quaternaire, un ion sulfonium ou un cation iodonium. A cet égard, n représente le nombre de noyaux benzène ou le nombre de noyaux benzène fusionnés au noyau hydrocarboné aromatique, qui est un entier de 1-6).
(JA)【課題】 焼成工程においてレジスト下層膜中から発生する昇華物量を低減し、且つエイジングを抑制することで高い保存安定性を有するためのレジスト下層膜形成組成物を提供する。 【解決手段】 【請求項1】 下記式(1): (式中、Arはベンゼン環又はベンゼン環が縮合した芳香族炭化水素環を示し、mは0乃至(2+2n)の整数であり、m及びmはそれぞれ1乃至(3+2n)の整数であり、(m1+m2+m3)は2乃至(4+2n)の整数を示す。ただし、nはベンゼン環の数又は芳香族炭化水素環において縮合したベンゼン環の数を表し、1乃至6の整数である。XはNH、第1級アンモニウムイオン、第2級アンモニウムイオン、第3級アンモニウムイオン、第4級アンモニウムイオン、スルホニウムイオン、又はヨードニウムカチオンを示す。)で表される水酸基を有するアリールスルホン酸塩化合物を含むレジスト下層膜形成組成物。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)