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1. (WO2014129508) 光導波路素子及び光導波路素子の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2014/129508    国際出願番号:    PCT/JP2014/053943
国際公開日: 28.08.2014 国際出願日: 19.02.2014
IPC:
G02F 1/035 (2006.01), G02F 1/313 (2006.01)
出願人: SUMITOMO OSAKA CEMENT CO., LTD. [JP/JP]; 6-28, Rokubancho, Chiyoda-ku, Tokyo 1028465 (JP)
発明者: ICHIKAWA Junichiro; (JP).
KONDOU Katsutoshi; (JP)
代理人: HASEGAWA Yoshiki; SOEI PATENT AND LAW FIRM, Marunouchi MY PLAZA (Meiji Yasuda Life Bldg.) 9th fl., 1-1, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005 (JP)
優先権情報:
2013-032058 21.02.2013 JP
発明の名称: (EN) OPTICAL WAVEGUIDE ELEMENT AND METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL WAVEGUIDE ELEMENT
(FR) ÉLÉMENT DE GUIDE D'ONDES OPTIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'ÉLÉMENT DE GUIDE D'ONDES OPTIQUE
(JA) 光導波路素子及び光導波路素子の製造方法
要約: front page image
(EN)A method for manufacturing an optical waveguide element according to an aspect of the present invention comprises: an optical waveguide forming step of forming an optical waveguide extending in a first direction on a substrate by doping with an impurity that lowers the coercive electric field of the substrate; a ridge forming step of forming a first ridge including the optical waveguide and a second ridge intersecting with the first ridge; and a polarizing step of reversing the polarization direction of a region in the substrate by applying voltage to one region divided by the second ridge.
(FR)Un procédé de fabrication d'élément de guide d'ondes optique selon un aspect de la présente invention comprend : une étape formant guide d'ondes optique de formation d'un guide d'ondes optique s'étendant dans une première direction sur un substrat par dopage avec une impureté qui abaisse le champ électrique coercitif du substrat ; une étape formant crête de formation d'une première crête comprenant le guide d'ondes optique et d'une seconde crête coupant la première crête ; et une étape de polarisation d'inversion de la direction de polarisation d'une région dans le substrat par application d'une tension à une région divisée par la seconde crête.
(JA) 本発明の一側面に係る光導波路素子の製造方法は、基板の抗電界を下げる不純物をドープすることによって、第1方向に延びる光導波路を基板に形成する光導波路形成工程と、光導波路を含む第1リッジ部及び第1リッジ部と交差する第2リッジ部を形成するリッジ形成工程と、基板のうち、第2リッジ部によって区分される一方の領域に電圧を印加することにより、領域の分極方向を反転する分極処理工程と、を備える。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)