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1. (WO2014129488) 高純度1H-ヘプタフルオロシクロペンテン
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2014/129488    国際出願番号:    PCT/JP2014/053863
国際公開日: 28.08.2014 国際出願日: 19.02.2014
IPC:
C07C 23/08 (2006.01), C07C 17/354 (2006.01), C07C 17/383 (2006.01), H01L 21/3065 (2006.01), C07B 61/00 (2006.01)
出願人: ZEON CORPORATION [JP/JP]; 6-2, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008246 (JP)
発明者: SUGIMOTO Tatsuya; (JP)
代理人: OHISHI Haruhito; Kotani Bldg. 1F, 5-3, Uchikanda 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010047 (JP)
優先権情報:
2013-031599 21.02.2013 JP
発明の名称: (EN) HIGH-PURITY 1H-HEPTAFLUOROCYCLOPENTENE
(FR) 1H-HEPTAFLUOROCYCLOPENTÈNE À PURETÉ ÉLEVÉE
(JA) 高純度1H-ヘプタフルオロシクロペンテン
要約: front page image
(EN) The present invention is a 1H-heptafluorocyclopentene characterized in having a purity of 99.9 wt% or greater and an organochlorine compound content of 350 wt ppm or less. The present invention provides a high-purity 1H-heptafluorocyclopentene that can be used as a gas in plasma reactions for semiconductors.
(FR)La présente invention concerne un 1H-heptafluorocyclopentène caractérisé en ce qu'il a une pureté de 99,9 % en poids ou plus et une teneur en composé organochlore de 350 ppm en poids ou moins. La présente invention concerne un 1H-heptafluorocyclopentène à pureté élevée qui peut être utilisé comme gaz dans des réactions plasma pour des semi-conducteurs.
(JA) 本発明は、純度99.9重量%以上で、且つ、有機塩素系化合物の含有量が350重量ppm以下であることを特徴とする1H-ヘプタフルオロシクロペンテンである。 本発明によれば、半導体向けのプラズマ反応用ガスとして好適な高純度の1H-ヘプタフルオロシクロペンテンが提供される。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)