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1. (WO2014129390) 透明電極及びその製造方法、並びに有機電子デバイス
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2014/129390    国際出願番号:    PCT/JP2014/053422
国際公開日: 28.08.2014 国際出願日: 14.02.2014
IPC:
H05B 33/28 (2006.01), H01B 5/14 (2006.01), H01B 13/00 (2006.01), H01L 51/42 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/02 (2006.01), H05B 33/10 (2006.01)
出願人: KONICA MINOLTA, INC. [JP/JP]; 2-7-2, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1007015 (JP)
発明者: SUEMATSU, Takatoshi; (JP).
MATSUMURA, Toshiyuki; (JP)
代理人: KOYO INTERNATIONAL PATENT FIRM; 17F., Tokyo Takarazuka Bldg., 1-1-3, Yurakucho, Chiyoda-ku, Tokyo 1000006 (JP)
優先権情報:
2013-030515 20.02.2013 JP
発明の名称: (EN) TRANSPARENT ELECTRODE, METHOD FOR MANUFACTURING SAME, AND ORGANIC ELECTRONIC DEVICE
(FR) ÉLECTRODE TRANSPARENTE, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, ET DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE ORGANIQUE
(JA) 透明電極及びその製造方法、並びに有機電子デバイス
要約: front page image
(EN)It is an object of the present invention to provide a transparent electrode capable of sufficiently withstanding a test for the storage attributes of an organic electronic device in a high-temperature and high-humidity environment. This transparent electrode (10) includes a transparent resin substrate (2), a porous layer (4), a fine metal wire pattern (6), and a transparent conductive protection layer (8) that contains at least a conductive polymer and a binder. The porous layer (4) and the fine metal wire pattern (6) are formed on the transparent resin substrate (2). The transparent conductive protection layer (8) is formed on the porous layer (4) and the fine metal wire pattern (6). The porous layer (4) and the transparent conductive protection layer (8) contain titanium oxide fine particles.
(FR)L'objet de la présente invention est de pourvoir à une électrode transparente apte à supporter suffisamment à un test pour les attributs de stockage d'un dispositif électronique organique dans un environnement à température élevée et à humidité élevée. Cette électrode transparente (10) comprend un substrat en résine transparente (2), une couche poreuse (4), un motif de câblage métallique mince (6), et une couche de protection conductrice transparente (8) qui contient au moins un polymère conducteur et un liant. La couche poreuse (4) et le motif de câblage métallique mince (6) sont formés sur le substrat en résine transparente (2). La couche de protection conductrice transparente (8) est formée sur la couche poreuse (4) et le motif de câblage métallique mince (6). La couche poreuse (4) et la couche de protection conductrice transparente (8) contiennent des particules fines d'oxyde de titane.
(JA) 本発明の課題は、有機電子デバイスの高温、高湿度環境下の保存性試験に十分耐え得る透明電極を提供することである。 本発明の透明電極(10)は、透明樹脂基板(2)、多孔質層(4)、金属細線パターン(6)、及び少なくとも導電性ポリマーとバインダーとを含有する透明導電性保護層(8)を有し、透明樹脂基板(2)上に多孔質層(4)と金属細線パターン(6)とが形成され、多孔質層(4)及び金属細線パターン(6)上に透明導電性保護層(8)が形成され、多孔質層(4)及び透明導電性保護層(8)には、酸化チタン微粒子が含有されていることを特徴とする。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)