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1. (WO2014129307) パターン測定装置、及び半導体計測システム
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2014/129307    国際出願番号:    PCT/JP2014/052611
国際公開日: 28.08.2014 国際出願日: 05.02.2014
IPC:
H01L 21/66 (2006.01), G01N 23/225 (2006.01)
出願人: HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717 (JP)
発明者: TOYODA Yasutaka; (JP).
HASEGAWA Norio; (JP).
KATO Takeshi; (JP).
SUGAHARA Hitoshi; (JP).
HOJO Yutaka; (JP).
HIBINO Daisuke; (JP).
SHINDO Hiroyuki; (JP)
代理人: INOUE Manabu; c/o HITACHI, LTD., 6-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008220 (JP)
優先権情報:
2013-030547 20.02.2013 JP
発明の名称: (EN) PATTERN-MEASURING APPARATUS AND SEMICONDUCTOR-MEASURING SYSTEM
(FR) APPAREIL DE MESURE DE MOTIF ET SYSTÈME DE MESURE DE SEMI-CONDUCTEUR
(JA) パターン測定装置、及び半導体計測システム
要約: front page image
(EN)It is an object of the present invention to provide a semiconductor-measuring system and a pattern-measuring apparatus capable of obtaining an evaluation result for appropriately selecting a treatment intended for a semiconductor device. To achieve this object, there is proposed in the present invention a pattern-measuring apparatus provided with an arithmetic unit for comparing the circuit pattern of the electronic device and a reference pattern. The arithmetic unit classifies the circuit pattern in circuit-pattern treatment units on the basis of a comparison between the measurement result between the circuit pattern and the reference pattern, and at least two thresholds.
(FR)L'objet de la présente invention est de pourvoir à un système de mesure de semi-conducteur et un appareil de mesure de motif aptes à obtenir un résultat d'évaluation pour sélectionner de manière appropriée un traitement destiné à un dispositif semi-conducteur. Afin d'atteindre cet objectif, la présente invention concerne un appareil de mesure de motif qui comprend une unité arithmétique pour comparer le motif de circuit du dispositif électronique et un motif de référence. L'unité arithmétique classe le motif de circuit dans des unités de traitement de motif de circuit sur la base d'une comparaison entre le résultat de mesure entre le motif de circuit et le motif de référence, et au moins deux seuils.
(JA) 本発明は、半導体デバイスに対する処理を適正に選択するための評価結果を求めることが可能なパターン測定装置及び半導体計測システムの提供を目的とする。 上記目的を達成するために本発明では、電子デバイスの回路パターンと基準パターンの比較を行う演算装置を備えたパターン測定装置であって、当該演算装置は、前記回路パターンと基準パターンとの間の計測結果と、少なくとも2つの閾値との比較に基づいて、当該回路パターンを回路パターンの処理単位で分類するパターン測定装置を提案する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)