WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | Français | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

国際・国内特許データベース検索
World Intellectual Property Organization
検索
 
閲覧
 
翻訳
 
オプション
 
最新情報
 
ログイン
 
ヘルプ
 
自動翻訳
1. (WO2014129009) 基板製造装置及び基板製造装置のメンテナンス方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2014/129009    国際出願番号:    PCT/JP2013/078303
国際公開日: 28.08.2014 国際出願日: 18.10.2013
IPC:
H05K 3/28 (2006.01), B05C 11/10 (2006.01), H05K 3/10 (2006.01)
出願人: SUMITOMO HEAVY INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 1-1, Osaki 2-chome, Shinagawa-ku, Tokyo 1416025 (JP)
発明者: SEIYAMA, Takeshi; (JP).
UKITA, Akihiro; (JP)
代理人: KITAYAMA, Mikio; OWA PATENT FIRM, Tokyo Office, 3rd Floor, Sankyo Building, 2-1-2, Koishikawa, Bunkyo-ku, Tokyo 1120002 (JP)
優先権情報:
2013-033426 22.02.2013 JP
発明の名称: (EN) APPARATUS FOR MANUFACTURING SUBSTRATE AND METHOD FOR MAINTAINING APPARATUS FOR MANUFACTURING SUBSTRATE
(FR) APPAREIL DE FABRICATION DE SUBSTRAT ET PROCÉDÉ D'ENTRETIEN D'APPAREIL DE FABRICATION DE SUBSTRAT
(JA) 基板製造装置及び基板製造装置のメンテナンス方法
要約: front page image
(EN)In the present invention, a stage holds a substrate and moves the held substrate. A sheet holding apparatus holds a maintenance sheet. A nozzle head discharges ink droplets toward the substrate held by the stage. A moving mechanism moves either or both of the maintenance sheet and the nozzle head, resulting in a state where the maintenance sheet is disposed at a maintenance location below the nozzle head and a state where the maintenance sheet is disposed at a retracted location. In the retracted location, the maintenance sheet does not overlap the nozzle head in plan view. The stage moves the held substrate and makes the substrate pass below the maintenance sheet disposed at the retracted location and below the nozzle head. In the apparatus for manufacturing a substrate, it is possible to supply the maintenance function of the nozzle head without increasing the dedicated area of the apparatus.
(FR)Selon la présente invention, une platine porte un substrat et déplace le substrat porté. Un appareil de support de feuille porte une feuille d'entretien. Une tête de buse décharge des gouttelettes d'encre vers le substrat porté par la platine. Un mécanisme de déplacement déplace l'un ou les deux de la feuille d'entretien et de la tête de buse, ce qui résulte en un état dans lequel la feuille d'entretien est disposée à un emplacement d'entretien au-dessous de la tête de buse et un état dans lequel la feuille d'entretien est disposée à un emplacement rétracté. Dans l'emplacement rétracté, la feuille d'entretien ne recouvre pas la tête de buse dans une vue du plan. La platine déplace le substrat porté et amène le substrat à passer au-dessous de la feuille d'entretien disposée à l'emplacement rétracté et au-dessous de la tête de buse. Dans l'appareil de fabrication d'un substrat, il est possible de fournir la fonction d'entretien de la tête de buse sans augmenter la surface dédiée de l'appareil.
(JA) ステージが基板を保持し、保持した基板を移動させる。シート保持装置がメンテナンスシートを保持する。ノズルヘッドが、ステージに保持された基板に向けてインクの液滴を吐出する。移動機構が、メンテナンスシート及びノズルヘッドの少なくとも一方を移動させて、メンテナンスシートがノズルヘッドの下のメンテナンス位置に配置された状態と、メンテナンスシートが平面視においてノズルヘッドと重ならない退避位置に配置された状態とを実現する。ステージは、保持した基板を移動させて、退避位置に配置されたメンテナンスシートの下方、及びノズルヘッドの下方を通過させる。この基板製造装置においては、装置の専有面積を大きくすることなく、ノズルヘッドのメンテナンス機能を付与することができる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)